[发明专利]Nb5+掺杂的单斜相VO2金属‑绝缘体相变陶瓷及其制备方法在审
申请号: | 201710191616.5 | 申请日: | 2017-03-28 |
公开(公告)号: | CN107162591A | 公开(公告)日: | 2017-09-15 |
发明(设计)人: | 袁松柳;张润;尹重阳;符青山 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | C04B35/495 | 分类号: | C04B35/495;C04B35/626 |
代理公司: | 北京众达德权知识产权代理有限公司11570 | 代理人: | 刘杰 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | nb5 掺杂 单斜 vo2 金属 绝缘体 相变 陶瓷 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及相变陶瓷材料技术领域,具体涉及一种Nb5+掺杂的单斜相 VO2金属-绝缘体相变陶瓷及其制备方法。
背景技术
导体与非导体的能带结构不同,导体的电导主要决定于费米面附近的情况,如果通过改变外界条件能够影响到能带结构或费米能级,则就可以引起金属导体与绝缘体间的转变。二氧化钒(VO2)具有金属-绝缘体相变(MIT)特性,是一种智能热致变色材料。在68℃附近VO2由低温单斜半导体相转变为高温四方金属相,其光电及磁学性能随之发生了很大的可逆变化,使得成为一种有广泛应用前景的光电转换材料、光存储、激光保护和智能窗材料,在理论研究和应用上均具有很高的价值。VO2薄膜在低温时具有较高的红外透过率,在高温时红外透过率却很低,利用这一特性,可在玻璃衬底上沉积不同生长取向的二氧化钒薄膜,通过其在不同温度下对红外光透过率的改变,实现智能调节红外辐射的入射量起到保持室温的目的。因此,在实际应用中,需要将VO2的相变温度从68℃降低至室温乃至更低温度。
为拓展材料的应用范围,如何可控降低VO2的相变温度成为研究热点。据报道,通过掺杂、应力、改变晶粒尺寸等可以调节VO2相变温度,然而从材料的维度即VO2薄膜考虑,掺杂比例不能有效调控,继而不能实现可控调节相变温度;另一方面,薄膜的制备工艺成本高昂,程序复杂,难以进行产业化生产。此外,通过改变应力和晶粒大小改变VO2的相变温度,调节空间较小,重复性差,不能实现可控连续调节。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种Nb5+掺杂的单斜相VO2金属-绝缘体相变陶瓷及其制备方法,用该方法制备的VO2块体材料相变温度可降低至室温25℃乃至更低,其工艺过程少,用料简单,能耗低,制备的陶瓷材料物理性能优越。
为解决上述技术问题,本发明提出的Nb5+掺杂的单斜相VO2金属-绝缘体相变陶瓷的制备方法,包括以下步骤:
(1)室温下,首先,将称量好的柠檬酸放入烧杯中,加入去离子水,在磁力搅拌下溶解,形成透明溶液;然后称量分析纯的五氧化二钒放入烧杯中,一并磁力搅拌,形成均匀溶液;其中五氧化二钒与柠檬酸的物质的量比为 1:1.5~2.5,混合溶液的柠檬酸-五氧化二钒浓度为0.025±5%g/mL;
(2)将搅拌均匀的混合溶液倒入密闭高温高压容器中,然后将容器放入烘箱中以170℃~190℃加热,保证容器内部进行高温高压水热反应;反应时间为5~10h;
(3)待反应结束后,再对反应液进行固液分离:将沉淀进行离心清洗;再将沉淀悬浊液倒入烧杯中,最后放入烘箱中80℃~100℃干燥,得到正交相 VO2粉体;
(4)将正交相VO2粉体在真空环境下500℃~600℃热处理1~2h,去除有机物,且真空热处理过程中发生相变,得到单斜相VO2粉体;
(5)根据铌的掺杂比例,计算得到的化学计量比分别称取上述步骤所制备的单斜相VO2粉体和Nb2O5粉体,研磨、压片烧结,烧结温度为 1000~1100℃,烧结时间为10~12h,得到片状烧结物;上述铌掺杂比例为烧结物中钒与铌的原子数量比为99%:1%~97%:3%;
(6)将上述得到的片状烧结物捣碎并充分研磨2h后压片,放入洁净石英方舟内,再放入管式炉中;以普纯氩气300sccm冲洗管式炉石英管中气体环境15min后,再以泵抽吸管式炉,直至管内压强≤0.1Pa,再进行管式炉加热,以5℃/min升温至1000-1100℃,保温5-6h后随炉冷却至室温,得到掺Nb5+的单斜相VO2金属-绝缘体相变陶瓷块体。
所述固液分离采用离心分离,离心转速为5000r/min~6000r/min,离心时间为3~5min。
优选的,所述真空热处理采用石英管式电阻丝炉,加热前先通入普纯氩气,氩气气体流速为300sccm~400sccm冲洗石英管10-20min。
优选的,热处理前,石英管内的压强≤0.1Pa。
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