[发明专利]一种处理光阻沉积的搅拌装置及光阻桶

说明书

本发明涉及搅拌装置技术领域，具体涉及一种处理光阻沉积的搅拌装置及光阻桶，包括套轴、内伸缩轴、搅拌组件和旋杆；其中，旋杆安装在套轴上端用于带动套轴转动，搅拌组件设置在套轴下端随着套轴转动，内伸缩轴设置在套轴内部与搅拌组件连接，用于控制搅拌组件开合。打开光阻桶的圆口，将搅拌装置置于光阻桶内，内伸缩轴向下压打开两个搅拌片，旋转旋杆带着套轴搅拌片转动，搅拌片靠近光阻桶底部，此时手控制搅拌装置从底部开启逐步向上搅拌，从而到达光阻成分均一的目的。使光刻胶搅拌更佳均匀，使用方便快捷，节省大量人力物力，搅拌速度快，安全性高。

技术领域

本发明涉及搅拌装置技术领域，尤其涉及一种处理光阻沉积的搅拌装置及光阻桶。

背景技术

TFT-LCD(液晶显示器)的生产中，需要用到光刻胶，其中CF(彩膜滤光片)基板的生产中所需要的RGB色阻的光刻胶对光阻含量的均一性有着很高的要求。由于光阻长距离的运输和长时间的存储，会导致光阻有一定沉积，光阻桶内光阻含量上面比下面低，由于CF采用的为负性光阻(即曝光的部分光阻会保留下来)，如果光阻均一性不好，在经过抽真空和预加热工序之后，由于光阻内溶剂的挥发，会使留下的光阻成分含量有差异，从而导致特性值有差异，影响产品品质。

现有的光阻桶没有防止或处理光阻沉积的设计。常用的处理方式是滚动或者摇晃光阻桶，由于光阻桶较重，所以操作不够方便，且由于光阻易燃，具有一定的毒性，所以操作也存在安全问题。

发明内容

针对上述问题中存在的不足之处，本发明提供一种处理光阻沉积的搅拌装置及光阻桶。

为实现上述目的，本发明提供一种处理光阻沉积的搅拌装置，包括：

套轴、内伸缩轴、搅拌组件和旋杆；其中，

所述旋杆安装在所述套轴上端用于带动所述套轴转动，所述搅拌组件设置在所述套轴下端随着所述套轴转动，所述内伸缩轴设置在所述套轴内部与所述搅拌组件连接，用于控制所述搅拌组件开合。

上述的处理光阻沉积的搅拌装置，所述搅拌组件包括两个结构相同的搅拌片，两个所述搅拌片对称设置；

所述搅拌片一端为半圆形状另一端为垂直形状，凹槽加工在所述搅拌片上面一侧与所述半圆形状相连接。

上述的处理光阻沉积的搅拌装置，两个所述搅拌片撑开时呈“一”直线。

上述的处理光阻沉积的搅拌装置，所述套轴为圆桶形状。

上述的处理光阻沉积的搅拌装置，在所述套轴下部两侧均加工有豁口。

上述的处理光阻沉积的搅拌装置，所述内伸缩轴的下端安装有活动轴节，两个连接片设置在所述豁口内，两个所述连接片上端分别与所述活动轴节连接，两个所述连接片下端分别与所述搅拌组件连接。

上述的处理光阻沉积的搅拌装置，两个所述连接片为倾斜设置。

上述的处理光阻沉积的搅拌装置，所述套轴的高度小于所述内伸缩轴的高度。

上述的处理光阻沉积的搅拌装置，所述旋杆为横向的“L”形状。

一种光阻桶，包括构造在桶体上的光阻出口，在所述桶体上还构造有供所述的处理光阻沉积的搅拌装置出入的圆口。

在上述技术方案中，本发明提供的处理光阻沉积的搅拌装置，通过内伸缩轴将搅拌组件撑开，旋杆带动套轴转动，搅拌组件随着套轴转动，制搅拌装置从底部开启逐步向上搅拌，使光刻胶搅拌更佳均匀，使用方便快捷，节省大量人力物力，搅拌速度快，安全性高。

由于上述处理光阻沉积的搅拌装置具有上述技术效果，包含该装置的光阻桶也应具有相应的技术效果。

附图说明

在下文中将基于实施例并参考附图来对本发明进行更详细的描述。