[发明专利]光学膜以及偏振板有效
| 申请号： | 201710176196.3 | 申请日： | 2017-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN107238876B | 公开（公告）日： | 2020-05-05 |
| 发明（设计）人： | 中村大地;白石贵志 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/14 | 分类号： | G02B1/14;G02B5/30;C09J7/24;C09J7/25 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 以及 偏振 | ||
1.一种光学膜，其具备表面保护膜和增亮膜，
所述光学膜的特征在于，
在被照射累计光量为8000mJ/cm2的活性能量射线之后，将所述表面保护膜从所述增亮膜剥离时所需的掀起力为7.0N/25mm以下，
所述掀起力的上升率小于700％。
2.一种光学膜，其具备表面保护膜和厚度为50μm以下的增亮膜，
所述光学膜的特征在于，
在被照射累计光量为8000mJ/cm2的活性能量射线之后，将所述表面保护膜从所述增亮膜剥离时所需的掀起力为10.0N/25mm以下，
所述掀起力的上升率小于700％。
3.一种光学膜，其具备表面保护膜和增亮膜，该光学膜通过对端面进行磨削加工而成，
所述光学膜的特征在于，
在被照射累计光量为8000mJ/cm2的活性能量射线之后，将所述表面保护膜从所述增亮膜剥离时所需的掀起力为10.0N/25mm以下，
所述掀起力的上升率小于700％。
4.一种光学膜，其具备表面保护膜和端面中的表面的长宽比Str为0.25以上的增亮膜，
所述光学膜的特征在于，
在被照射累计光量为8000mJ/cm2的活性能量射线之后，将所述表面保护膜从所述增亮膜剥离时所需的掀起力为10.0N/25mm以下，
所述掀起力的上升率小于700％。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的光学膜，其中，
在被照射累计光量为8000mJ/cm2的活性能量射线之后，将所述表面保护膜从所述增亮膜剥离时所需的剥离力为0.11N/25mm以下。
6.根据权利要求5所述的光学膜，其中，
所述剥离力的上升率为95％以下。
7.根据权利要求1～4中任一项所述的光学膜，其中，
所述表面保护膜的对于波长190nm的所述活性能量射线的透射率为5％以下。
8.根据权利要求5所述的光学膜，其中，
所述表面保护膜的对于波长190nm的所述活性能量射线的透射率为5％以下。
9.根据权利要求6所述的光学膜，其中，
所述表面保护膜的对于波长190nm的所述活性能量射线的透射率为5％以下。
10.一种偏振板，其特征在于，
所述偏振板具有偏振膜和权利要求1～9中任一项所述的光学膜。
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