[发明专利]一种涂布模头高度的精确控制方法在审

专利信息
申请号: 201710171645.5 申请日: 2017-03-21
公开(公告)号: CN108620287A 公开(公告)日: 2018-10-09
发明(设计)人: 冯宗宝;欧阳俊波;张海銮;程园园;章婷;刘德昂;曲亚东;钱磊;张德龙 申请(专利权)人: 苏州威格尔纳米科技有限公司
主分类号: B05C11/02 分类号: B05C11/02;B05C11/10
代理公司: 苏州华博知识产权代理有限公司 32232 代理人: 孟宏伟
地址: 215000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 涂布模头 高质量薄膜 距离测量仪 闭环控制 高度位置 厚度均匀 实时调整 涂布薄膜 涂布过程 涂布平面
【说明书】:

发明提供一种涂布模头高度的精确控制方法,在涂布过程中,直接利用距离测量仪测定涂布模头到涂布平面的距离,并通过闭环控制完成涂布模头的实时调整,这样可以大大减少因为涂布模头高度位置变化而造成涂布薄膜的影响,以得到厚度均匀一致的高质量薄膜。

技术领域

本发明涉及平板精密挤压式涂布技术,特别是一种涂布模头高度的精确控制方法。

背景技术

基于挤压式涂布方法对涂布薄膜厚度和厚度均匀性的高度可控制性特点,挤压式涂布方式被广泛应用于新型薄膜太阳能电池、新型显示材料、光学功能膜、环保渗透膜等新型行业领域。随着新型行业功能薄膜物化特质的要求和薄膜高性能化要求,涂布薄膜厚度及厚度均匀性需要更高程度的控制。

一般而言,涂布薄膜的质量(厚度和均匀性)受涂布设备和涂布条件的影响,除机加工设备部件精度影响以外,模头高度控制和涂布速度控制对膜质影响最为显著。

在挤压式平板涂布过程中:样片输送、模头下降、涂布(涂布完成)、模头上升,涂布模头在涂布过程中要受到传动,涂布模头机械调整也造成高度位置偏差,长时间工作,会造成更大的累计偏差,从而造成涂布薄膜厚度的不均匀。

发明内容

为了克服上述现有技术的不足,本发明的目的是提供了一种涂布模头高度的精确控制方法。

为达到上述目的,本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:

一种涂布模头高度的精确控制方法,包括以下步骤:

步骤1:设置模头高度调节机构,用以调整涂布模头的高度位置;在涂布模头或涂布平台上设置距离测量仪,用以测量涂布模头与涂布平台的绝对距离;

步骤2:根据应用环境设定一预设高度值、一预设偏差值;

步骤3:距离测量仪测定涂布模头与涂布平台的距离;

步骤4:将预设高度值与距离进行比较,并根据预设高度值通过模头高度调节机构调整涂布模头的高度;

步骤5:距离测量仪实时测定涂布模头与涂布平台的距离;

步骤6:根据预设高度值及预设偏差值得到高度值范围,当实时测定的距离偏移高度值范围时,实施涂布模头高度向预设高度范围的闭环调整。

采用上述优选的方案,在涂布过程中,直接利用距离测量仪测定涂布模头到涂布平面的距离,并通过闭环控制完成涂布模头的实时调整,这样可以大大减少因为涂布模头高度位置变化而造成涂布薄膜的影响,以得到厚度均匀一致的高质量薄膜。

进一步地,步骤1中,所述模头高度调节机构包括两个伺服电机,可以分别调节模头两端的高度;所述距离测量仪为两个,分别设置在涂布模头或涂布平台的两侧。

采用上述优选的方案,可以对两端高度分别调节,便于调整薄膜厚度的均匀度。

进一步地,所述距离测量仪设置在涂布平台的两侧,倒置在所述涂布模头的下方。

采用上述优选的方案,将距离测量仪倒置在涂布模头下方,测量由下至上,可以节省空间。

进一步地,所述距离测量仪经固定支架设置在所述涂布模头的侧方。

采用上述优选的方案,将距离测量仪固定在涂布模头的侧方,测量由上至下,该固定结构简洁,便于利用大理石基准平台实施校正操作。

进一步地,还包括涂布模头两端高度差的调节步骤:

步骤7:设定一预设对比差值,计算涂布模头两端实时高度差值,当超出预设对比差值时,实施涂布模头高度向预设高度范围的调整。

采用上述优选的方案,对涂布模头的两端高度差进行调节,确保薄膜厚度的均匀性。

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