[发明专利]一种发酵生产庆大霉素C1a的工艺方法

权利要求书

1.一种发酵生产庆大霉素C1a的工艺方法，包括孢子培养、种液制备、一级种子培养、二级种子培养、发酵生产和补料控制的步骤，其特征在于：

所述一级种子培养所用培养基为一级种子培养基，其组分及质量百分数如下：可溶性淀粉0.8%-2.0%、玉米粉1%-3%、甘氨酸 0.3%-1.2%、谷氨酸0.8%-2.0%、烟酰胺1.5%-3.0%、葡萄糖1.0%-3%、磷酸二氢钾0.05%-0.5%、硝酸钾0.01%-0.5%、碳酸钙0.4%-1.0%、氯化钴0.001%-0.005%、氯化钙0.01%-0.05%、泡敌0.01%-0.05%和消沫剂0.01-0.05%，其余为水；

所述二级种子培养所用培养基为二级种子培养基，其组分及质量百分数如下：可溶性淀粉1%-4%、玉米粉1%-3%、烟酰胺 1.5%-3.0%、酵母粉 1.0%-5.0%、葡萄糖1.0%-3%、硝酸钾0.01%-0.5%、碳酸钙0.4%-1.0%、氯化钴0.001%-0.005%、氯化钙0.01%-0.05%、泡敌0.01%-0.05%和消沫剂0.01%-0.05%，其余为水；

所述发酵生产所用培养基为发酵培养基，其组分及其质量百分数如下：可溶性淀粉1%-4%、玉米粉1%-3%、甘氨酸0.3%-1.2%、谷氨酸 0.8%-2.0%、烟酰胺 1.5%-3.0%、酵母粉1.0%-5.0%、葡萄糖1%-3%、硝酸钾0.01%-0.5%、碳酸钙0.4%-1.0%、氯化钴0.001%-0.005%、氯化钙0.01%-0.05%、泡敌0.01%-0.05%和消沫剂0.01-0.05%，其余为水；

所述补料控制是在发酵生产过程中进行补糖、补水、补消泡剂、补碱和补氮操作：

补糖控制：全程还原糖浓度控制在1-20g/L，从发酵开始至60h，当还原糖浓度低于5g/L时开始补糖，补糖量=；发酵60h后当还原糖浓度低于5g/L时，补糖量=；放罐前4h停止补糖；

补水控制：发酵前50h不补水，50h后黏度达到2000cp时开始补水，补水按照流加方式补入，黏度低于2000cp时停止补水；

补消泡剂控制：一次性补入1-5L无菌消泡剂；

补碱控制：当pH低于6.5时开始补碱，采用流加方式维持pH在6.5-7.5之间；

补氮控制：当氨态氮浓度低于1mg/L时开始补氮，达到5mg/L停止补氮。

2.如权利要求1所述的一种发酵生产庆大霉素C1a的工艺方法，其特征在于：所述种液制备的过程为：刮取斜面孢子，制备孢子悬浮液；将孢子悬浮液接入无菌小型发酵罐中，在34-38℃、100-300rpm/min和通气比为0.5-15VVM的条件下培养24-48h，得种液。

3.如权利要求1所述的一种发酵生产庆大霉素C1a的工艺方法，其特征在于：所述补糖控制中补充的是质量百分数为50%的葡萄糖水溶液。

4.如权利要求1所述的一种发酵生产庆大霉素C1a的工艺方法，其特征在于：所述补水控制中补充的是经高压蒸汽灭菌的纯化水。

5.如权利要求1所述的一种发酵生产庆大霉素C1a的工艺方法，其特征在于：所述补氮控制中补充的是质量百分数为10%的硫酸铵水溶液。

6.如权利要求1所述的一种发酵生产庆大霉素C1a的工艺方法，其特征在于：所述消泡剂是与纯化水以1:3的体积比混合后使用。

7.如权利要求1所述的一种发酵生产庆大霉素C1a的工艺方法，其特征在于：所述补碱控制中补充的是质量百分数为10%的氢氧化钠水溶液。