[发明专利]能有效减少大理石横梁长度的方法

说明书

本发明涉及一种方法，尤其是一种能有效减少大理石横梁长度的方法，属于直写式光刻胶的技术领域。按照本发明提供的技术方案，所述能有效减少大理石横梁长度的方法，包括大理石横梁以及安装于所述大理石横梁上的光路轴，在大理石横梁的下方设有左台面以及右台面，所述左台面、右台面在大理石横梁下方呈并置式放置；在进行曝光时，放置于左台面上的左台面板体与放置于右台面上的右台面板体呈对称式放置。本发明有效减少大理石横梁的长度，减少占用面积，降低光刻机的重量，提高光刻机安装环境的适应能力，减小光路轴的行程，降低光光刻机的成本。

技术领域

本发明涉及一种方法，尤其是一种能有效减少大理石横梁长度的方法，属于直写式光刻胶的技术领域。

背景技术

直写式光刻机设备又称影像直接转移设备，是半导体及PCB生产领域中有别于传统半自动曝光设备的一个重要设备，是利用图形发生器取代传统光刻机的掩模板，从而可以直接将计算机的图形数据曝光到晶圆或PCB板上，节省制板时间和制作掩模板的费用，并且自身可用做掩模板的制作。

目前，国内主流技术均使用DMD（数字微镜芯片）作为影像转移的核心器件。因DMD微镜尺寸限制，无法一次曝光覆盖整个电路板的范围，因此，需要分成不同条带曝光。条带拼接后构成完整的电路板图形。

在新一代的直写式光刻设备中，为提高产能，可采用双台面结构进行扫描曝光。在双台面结构中，左右台面均靠近同一侧放板，由于光路结构不同，实际曝光图形可能会超出台面的范围。因光路结构设计的不同，以及实际生产时使用的曝光图形尺寸的不同，可能会出现曝光图形的尺寸超出台面范围的情况，超出台面范围的大小，称为富余量。

双台面在靠近同一侧放板时，实际所需要的大理石横梁的长度，不仅取决于左右台面的宽度，还有留有一定的富余量。

发明内容

本发明的目的是克服现有技术中存在的不足，提供一种能有效减少大理石横梁长度的方法，其有效减少大理石横梁的长度，减少占用面积，降低光刻机的重量，提高光刻机安装环境的适应能力，减小光路轴的行程，降低光光刻机的成本。

按照本发明提供的技术方案，所述能有效减少大理石横梁长度的方法，包括大理石横梁以及安装于所述大理石横梁上的光路轴，在大理石横梁的下方设有左台面以及右台面，所述左台面、右台面在大理石横梁下方呈并置式放置；在进行曝光时，放置于左台面上的左台面板体与放置于右台面上的右台面板体呈对称式放置。

所述左台面板体、右台面板体为PCB板或晶圆。

所述大理石横梁通过横梁支撑立柱安装于平台底座上，在所述平台底座上还设有与左台面、右台面配合的台面导轨。

本发明的优点：左台面板体在左台面上的放置位置与右台面板体在右台面上的放置位置呈对称式放置，从而能有效降低大理石横梁的长度，从而减小平台底座的占地面积，通过大理石横梁的长度减小，能降低整个光刻机的质量，使得光刻机可以适应多变的安装环境，此外，大理石横梁的长度减小后，能使得光路轴的行程减小，降低光刻机的成本，提高曝光效率，安全可靠。

附图说明

图1为本发明光路轴、大理石横梁与左台面、右台面间的位置示意图。

图2为现有放板曝光条带的示意图。

图3为本发明放板曝光的示意图。

图4为现有放板且图形尺寸超过正常要求时的条带示意图。

图5为本发明放板且图形尺寸超过正常要求时的条带示意图。

图6为本发明光路轴、大理石横梁和左台面、右台面间的结构示意图。

附图标记说明：1-光路轴、2-大理石横梁、3-左台面、4-右台面、5-条带、6-横梁支撑立柱、7-平台底座以及8-台面导轨。