[发明专利]能有效减少大理石横梁长度的方法

权利要求书

1.一种能有效减少大理石横梁长度的方法，包括大理石横梁（2）以及安装于所述大理石横梁（2）上的光路轴（1），在大理石横梁（2）的下方设有左台面（3）以及右台面（4），所述左台面（3）、右台面（4）在大理石横梁（2）下方呈并置式放置；其特征是：所述能有效减少大理石横梁长度的方法，包括以下步骤：

（1）、所述大理石横梁（2）通过横梁支撑立柱（6）安装于平台底座（7）上，在所述平台底座（7）上还设有与左台面（3）、右台面（4）配合的台面导轨（8）；左台面（3）、右台面（4）能支撑在对应的台面导轨（8）上，并能在台面导轨（8）上运动，横梁支撑立柱（6）分别位于左台面（3）、右台面（4）间的外侧，横梁支撑立柱（6）在平台底座（7）上呈竖直放置，大理石横梁（2）固定支撑在横梁支撑立柱（6）的顶板，大理石横梁（2）呈矩形状，光路轴（1）上设置用于曝光的光路，光路轴（1）在大理石横梁（2）上能沿大理石横梁（2）的长度方向运动，光路能跟随光路轴（1）同步运动，以满足对左台面（3）、右台面（4）上的左台面板体、右台面板体的曝光；光路轴（1）移动区间，必须覆盖左台面（3）、右台面（4）的范围；在进行曝光时，放置于左台面（3）上的左台面板体与放置于右台面（4）上的右台面板体呈对称式放置；

（2）、工作之前，光路轴（1）和左台面（3）、右台面（4）均处于待机位置；光路轴（1）待机位置为行程正中间；工作时，当需要先对左台面（3）曝光时，光路轴（1）在左台面（3）上的待机位置位于左台面（3）的左侧；当需要先对右台面（4）曝光时，光路轴（1）在右台面（4）上的待机位置位于右台面（4）的右侧；

对左台面（3）曝光时，左台面（3）移动至光路下方的曝光位置，同时光路轴（1）移动至左台面（3）的左台面起始位置，开始曝光；左台面（3）曝光过程中，右台面（4）移动至曝光开始位置；左台面（3）曝光结束后，光路轴（1）由左台面（3）的左侧起始位置，移动至左台面（3）的右侧，以便对右台面（4）开始曝光，对右台面（4）曝光的过程与左台面（3）曝光过程相一致；

（3）、左台面（3）以左台面（3）的左下角为定位点放板，右台面（4）以右台面（4）的右下角为定位点放板，当光路超出右台面（4）的行程，在光路轴（1）正中间，没有光路与横梁支撑立柱（6）产生干涉的风险；左台面（3）与右台面（4）一样，从而能有效减少大理石横梁（2）的长度。