[发明专利]用于显示面板的基板及其制作方法、显示面板及封装方法

权利要求书

1.一种用于显示面板的基板，其特征在于，包括衬底基板和设置于所述衬底基板上的至少一个辅助封装构件；所述辅助封装构件的远离所述衬底基板的一侧设置有突出部，所述突出部在平行于所述衬底基板的方向上突出。

2.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述辅助封装构件包括相互连接的第一子构件和第二子构件，所述第二子构件位于所述衬底基板上，所述第一子构件位于所述第二子构件的远离所述衬底基板的一侧，所述第一子构件相对于所述第二子构件沿平行于所述衬底基板的方向突出的部分构成所述突出部。

3.根据权利要求2所述的基板，其特征在于，所述基板还包括位于所述衬底基板上的有源层，所述第一子构件与所述有源层同层设置。

4.根据权利要求2所述的基板，其特征在于，所述第一子构件和所述第二子构件的材料均为无机材料。

5.一种显示面板，包括相对设置的第一基板和第二基板以及位于所述第一基板和所述第二基板之间的封装材料层；其特征在于，所述第一基板和所述第二基板中的至少一方采用上述权利要求1至4任一项所述的基板。

6.一种用于显示面板的基板的制作方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上形成至少一个辅助封装构件；所述辅助封装构件的远离所述衬底基板的一侧形成有突出部，所述突出部在平行于所述衬底基板的方向上突出。

7.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述辅助封装构件包括相互连接的第一子构件和第二子构件；

所述在衬底基板上形成至少一个辅助封装构件包括：

在所述衬底基板上沉积第二材料层；

在所述第二材料层的远离所述衬底基板的一侧沉积第一材料层；

对所述第一材料层和所述第二材料层进行光刻胶涂覆、曝光、显影、两次刻蚀和光刻胶剥离，形成至少一个第一子构件和与每个第一子构件对应的第二子构件，所述第一子构件相对于所述第二子构件沿平行于所述衬底基板的方向突出的部分构成所述突出部。

8.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述对所述第一材料层和所述第二材料层进行光刻胶涂覆、曝光、显影、两次刻蚀和光刻胶剥离，形成至少一个第一子构件和与每个第一子构件对应的第二子构件包括：

在所述第一材料层之上涂覆光刻胶；

将掩膜板放置于所述衬底基板的上方，通过所述掩膜板对所述光刻胶进行曝光，形成未曝光部分和曝光部分；

对曝光后的光刻胶进行显影，去除所述曝光部分，保留所述未曝光部分；

对所述曝光部分对应的第一材料层和第二材料层进行第一次刻蚀，以去除所述曝光部分对应的第一材料层和第二材料层，形成第一刻蚀图形和第二刻蚀图形；

对所述未曝光部分对应的第一刻蚀图形和第二刻蚀图形进行第二次刻蚀，形成所述第一子构件和所述第二子构件；

剥离光刻胶的所述未曝光部分。

9.一种封装方法，包括：

在第一基板的衬底基板和/或第二基板的衬底基板上涂覆封装材料；

将所述第一基板和所述第二基板对盒；

对所述封装材料进行固化形成封装材料层；

其特征在于，所述第一基板和所述第二基板中的至少一方采用上述权利要求1至4任一项所述的基板。

10.根据权利要求9所述的封装方法，其特征在于，

所述封装材料层覆盖所述第一基板的衬底基板上的辅助封装构件且位于所述第一基板的衬底基板上的辅助封装构件的突出部与所述第一基板的衬底基板之间，和/或，所述封装材料层覆盖所述第二基板的衬底基板上的辅助封装构件且位于所述第二基板的衬底基板上的辅助封装构件的突出部与所述第二基板的衬底基板之间。