[发明专利]基于擦除速度的字线控制有效

专利信息
申请号: 201710128206.6 申请日: 2017-03-06
公开(公告)号: CN107545923B 公开(公告)日: 2020-11-27
发明(设计)人: B.雷;M.东加;G.J.赫明克;C.陈 申请(专利权)人: 桑迪士克科技有限责任公司
主分类号: G11C16/16 分类号: G11C16/16;G11C16/24
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邱军
地址: 美国得*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 擦除 速度 控制
【说明书】:

公开了用于擦除深度控制的装置、系统、方法、和计算机程序产品。一种装置包括非易失性存储单元块。控制器被配置成用于对非易失性存储单元块执行第一擦除操作。用于块的控制器被配置成用于基于验证电压阈值来确定所述块中的第一存储单元集合具有比所述块中的第二存储单元集合更快的擦除速度。用于块的控制器被配置成用于针对所述块中的第一存储单元集合和第二存储单元集合使用不同电压对所述块执行第二擦除操作。

技术领域

本公开在各实施例中涉及存储设备,并且更具体地涉及针对存储设备的基于擦除速度的字线控制。

背景技术

许多数据存储设备(诸如闪存设备)将数据存储在非易失性介质的单元中。每个单元的物理特性(诸如存储电荷、电压、材料相、电阻、磁化等)是可变的以便对数据进行编码。单元的物理特性可以跨可以被划分为离散状态的范围是可变的,从而使得不同的状态对应于不同的数据值。读出单元的物理特性是否满足在其范围内的一个或多个读取阈值(例如,电压阈值、电阻率阈值等)确定了单元的状态,因此允许恢复存储的数据值。

由于单元损坏、电荷泄露、温度效应、来自附近单元的干扰、制造差异等,单元的数据编码物理特性可以随着时间的推移而发生变化。例如,擦除单元的状态的速度可以在单元之间发生变化。随着存储密度的增加,特征尺寸缩小,从而使得单元更易于受到这种差异的影响。

发明内容

呈现了用于擦除深度控制的装置。在一个实施例中,一种装置包括非易失性存储单元块。在某些实施例中,用于块的控制器被配置成用于对所述非易失性存储单元块执行第一擦除操作。在一个实施例中,控制器被配置成用于基于验证电压阈值来确定块中的第一存储单元集合具有比所述块中的第二存储单元集合更快的擦除速度。在一些实施例中,控制器被配置成用于针对所述块中的第一存储单元集合和第二存储单元集合使用不同电压对非易失性存储单元块执行第二擦除操作。

呈现了用于擦除深度控制的方法。在一个实施例中,一种方法包括:使用第一电压分布对多个字线执行擦除操作的第一部分。在进一步实施例中,一种方法包括:对多个字线执行第一擦除验证。在某些实施例中,一种方法包括:基于第一擦除验证来确定多个字线中的第一字线组具有比所述多个字线中的第二字线组更低的阈值电压。在一些实施例中,一种方法包括:对多个字线执行擦除操作的第二部分。在一个实施例中,在针对第一字线组的擦除操作的第二部分过程中使用第二电压分布,在针对第二字线组的擦除操作的第二部分过程中使用第三电压分布,并且所述第二电压分布和所述第三电压分布是不同的。

在一个实施例中,一种用于擦除深度控制的装置包括:用于使用第一电压分布对多个字线执行第一擦除直到满足预擦除验证电压阈值的装置。在某些实施例中,一种装置包括:用于基于不同的擦除验证电压阈值来确定多个字线中的第一字线组具有比所述多个字线中的第二字线组更短的擦除持续时间和/或更快的擦除速度的装置。在各实施例中,一种装置包括:用于对多个字线执行第二擦除操作的装置。在一个实施例中,在针对第一字线组的第二擦除操作过程中使用第二电压分布,在针对第二字线组的所述第二擦除操作过程中使用第三电压分布,并且所述第二电压分布和所述第三电压分布是不同的。

附图说明

以下包括关于附图中展示的特定实施例的更具体的描述。应该理解,这些附图仅描绘了本公开的某些实施例并且因此不应被认为是限制其范围,通过使用附图利用另外的特定性和细节来描述和解释本公开,在附图中:

图1A是展示了用于擦除深度控制的系统的一个实施例的示意性框图;

图1B是展示了用于擦除深度控制的系统的另一实施例的示意性框图;

图2是展示了存储单元串的一个实施例的示意性框图;

图3是展示了存储单元阵列的一个实施例的示意性框图;

图4展示了3D、垂直NAND闪存结构的一个实施例;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于桑迪士克科技有限责任公司,未经桑迪士克科技有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710128206.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top