[发明专利]阵列基板及其制造方法、显示面板以及显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：

衬底基板；

公共电极层，所述公共电极层包括多个公共电极单元，且所述公共电极单元在触控阶段复用为触控电极；

第一绝缘层，所述第一绝缘层位于所述公共电极层背离所述衬底基板的一侧；

像素电极，所述像素电极位于所述第一绝缘层背离所述衬底基板的一侧；

触控信号线，所述触控信号线位于所述第一绝缘层背离所述衬底基板的一侧；

其中，每个所述公共电极单元与至少一条所述触控信号线通过设置于所述第一绝缘层上的过孔连接；

所述触控信号线与所述像素电极绝缘设置。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括集成电路，所述多个公共电极单元为呈阵列排布的公共电极块，所述公共电极单元通过所述触控信号线与所述集成电路连接；

在显示阶段，所述集成电路为所述公共电极单元提供公共电压信号；

在触控阶段，所述集成电路为所述公共电极单元提供触控驱动信号，并接收所述公共电极单元上收集的触控感应信号。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括数据线和扫描线，所述触控信号线平行于所述数据线的延伸方向，且一所述触控信号线与一所述数据线在垂直于所述衬底基板的方向上相互交叠。

4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一绝缘层包括第一区域和第二区域，所述第一区域位于所述像素电极与所述公共电极之间，所述第二区域位于所述触控信号线与所述公共电极之间；其中，

所述第一区域包括第一材料层，所述第二区域包括所述第一材料层和第二材料层，所述第二区域的厚度大于所述第一区域的厚度。

5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述第一材料层由氮化硅材料制成，所述第二材料层由氧化硅材料制成。

6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述第一材料层的厚度范围为50nm-200nm，所述第二材料层的厚度范围为50-200nm。

7.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一绝缘层由氮化硅材料制成。

8.根据权利要求1-7中任意一项所述的阵列基板，其特征在于，触控信号线由Mo、Al或Ti制成。

9.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，用于如权利要求1至8中任意一项所述的阵列基板，所述方法包括：

沉积第一透明电极层，对所述第一透明导电层进行一次图案化处理，形成公共电极层；

在所述公共电极层上沉积第一绝缘层，对所述第一绝缘层进行一次图案化处理，形成过孔；

在所述第一绝缘层上沉积一层金属层，对所述金属层进行一次图案化处理，形成触控信号线以及，所述触控信号线通过所述过孔与所述公共电极层连接；

在所述第一绝缘层上沉积一层第二透明导电层，对所述第二透明导电层进行一次图案化处理，形成像素电极，所述触控信号线与所述像素电极绝缘设置。

10.一种显示面板，其特征在于，包括：

如权利要求1至8中任意一项所述的阵列基板；

彩膜基板；

位于所述彩膜基板与所述阵列基板之间的液晶。

11.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求10所述的显示面板。