[发明专利]一种基体表面低摩擦耐磨损防护薄膜的制备方法在审
| 申请号： | 201710089784.3 | 申请日： | 2017-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN108456882A | 公开（公告）日： | 2018-08-28 |
| 发明（设计）人： | 王永欣;关晓艳;李金龙;鲁侠;王立平;薛群基 | 申请（专利权）人： | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
| 主分类号： | C23C28/00 | 分类号： | C23C28/00;C23C14/06;C23C14/32;C23C16/44;C23C14/14 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 单英 |
| 地址： | 315201 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基体表面 耐磨损 制备 防护薄膜 复合薄膜 摩擦系数 低摩擦 聚对二甲苯薄膜 化学气相沉积 薄膜层表面 多弧离子镀 耐腐蚀性能 腐蚀环境 海水环境 协同效应 高载荷 磨损率 沉积 薄膜 | ||
1.一种基体表面低摩擦耐磨损防护薄膜的制备方法，其特征是：采用多弧离子镀技术在基体表面制备CrN薄膜层，之后采用化学气相沉积法在该CrN薄膜层表面沉积聚对二甲苯薄膜，获得PPXC/CrN双重复合薄膜。
2.如权利要求1所述的基体表面低摩擦耐磨损防护薄膜的制备方法，其特征是：采用多弧离子镀技术在基体表面制备CrN薄膜层的具体过程如下：
将清洗处理后的基体放入真空室进行抽真空处理，选用铬靶，打开氮气阀，对基体施加负偏压，利用多弧离子镀技术在基体表面制备CrN薄膜层。
3.如权利要求1所述的基体表面低摩擦耐磨损防护薄膜的制备方法，其特征是：采用化学气相沉积法在CrN薄膜表面沉积PPXC薄膜的过程为：采用化学气相沉积设备，以对二甲苯环二体作为前驱体，前驱体在600～800℃下裂解生成游离基的中间体，吸附在CrN薄膜表面聚合并形成PPXC薄膜。
4.如权利要求2所述的基体表面低摩擦耐磨损防护薄膜的制备方法，其特征是：所述的铬靶电流为50～70A。
5.如权利要求2所述的基体表面低摩擦耐磨损防护薄膜的制备方法，其特征是：所述的基体负偏压为-20～-70V。
6.如权利要求2所述的基体表面低摩擦耐磨损防护薄膜的制备方法，其特征是：所述的氮气流量为300～800sccm。
7.如权利要求1所述的基体表面低摩擦耐磨损防护薄膜的制备方法的制备方法，其特征是：在采用多弧离子镀技术在基体表面制备CrN薄膜之前，首先采用多弧离子镀技术在基体表面制备Cr过渡层。
8.如权利要求7所述的基体表面低摩擦耐磨损防护薄膜的制备方法的制备方法，其特征是：Cr过渡层制备过程中，氩气流量为300～600sccm，基体负偏压为-20～-70V，铬靶电流为50～70A。
9.如权利要求1至8中任一权利要求所述的基体表面低摩擦耐磨损防护薄膜的制备方法，其特征是：所述PPXC/CrN双重复合薄膜在载荷30N，对偶为3mm的WC球，运行速度20mm/s及单程滑行距离5mm的海水环境下运行1h，复合薄膜层的摩擦系数低于0.1以下，磨损率在10-6mm3/Nm数量级。
10.如权利要求9所述的基体表面低摩擦耐磨损防护薄膜的制备方法，其特征是：复合薄膜的摩擦系数低于0.06，磨损率低于1.8×10-6mm3/Nm。
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