[发明专利]一种单颗LED芯片微小化多色发光处理方法有效

专利信息
申请号: 201710082982.7 申请日: 2017-02-16
公开(公告)号: CN106876536B 公开(公告)日: 2019-07-26
发明(设计)人: 崔杰;彭友;陈龙;丁磊 申请(专利权)人: 安徽芯瑞达科技股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/50
代理公司: 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 代理人: 胡剑辉
地址: 230000 安徽省合肥市经*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 led 芯片 微小 多色 发光 处理 方法
【说明书】:

发明提供了一种单颗LED芯片微小化多色发光处理方法,其特征在于,包括以下步骤:S1:将蓝光芯片上表面分为A区域、B区域、C区域三个区域,先在蓝光芯片表面涂上荧光胶A和光刻胶,对B区域、C区域进行曝光,对A区域进行显影,去除显影部分的光刻胶A,去除曝光区域的荧光胶A;S2:在蓝光芯片表面涂上荧光胶B与光刻胶,对B曝光进行显影,然后去胶;S3:在蓝光芯片表面涂抹荧光胶C和光刻胶,对A区域、B区域进行曝光,对C区域进行显影,去胶。本可实现微小化,同颗芯片做到已um为单位的小区域RGB单色光发光区域,已满足如今清晰度越来越高的液晶面板的要求。

技术领域

本发明涉及到LED技术领域,特别是一种单颗LED芯片微小化多色发光处理方法。

背景技术

发明原因,多色小尺寸芯片的需求很高。在大功率照明领域,采用多个小芯片串并联的技术已经使用的很成熟也很广泛。和单一大功率芯片比起来,此工艺的芯片成本较低,整体的散热性也更好、光效更高、光衰更慢,可同时达到高效率及高功率的目标,虽然有工序较复杂、信赖性较低等隐忧,但也难以动摇它的地位。其次,在显示屏应用的领域,RGB多芯片封装是一个主流的工艺,随着象素的密度越高(即分辨率越高),单位面积下单个象素点的尺寸就必须越来越小,在逐渐朝着”小间距化”方向发展的同时,所能使用的R、G、B三色芯片的尺寸也必须越来越小,藉此满足市场上高分辨率的要求。

光刻的步骤主要有:前处理、旋涂光刻胶、前烘、曝光、显影、坚膜、检查图形几个步骤。

光刻通常分为以光子为光源的光刻技术、以粒子为光源的光刻技术以及物理接触式光刻技术。在上述光刻技术中,以光子为基础的光刻技术种类很多,其原理是当光照射到光刻胶上时,受到光照的部分发生降解反应而能被显影液溶解(正胶),或发生交链反应而成为不溶物(负胶),正胶显影后的图形与掩膜板上图形一致,负胶显影后的图形与掩膜板上互补。

传统方法是利用小的R、G、B芯片封装,但该方法存在缺陷很明显。详细如下:

小芯片无法做到微小化,常规小芯片规格也在6-8mil左右;

每颗芯片采用打线或倒装方式封装,异常概率比较高,如何将小芯片完成合适的固晶,较难;如何在小芯片小pad上打好金线,也是个难题。容易出现打线异常;

小芯片串并联封装,增加了整体出现异常的概率;

小芯片固晶、焊线,需要每颗抓取花费时间长,对产能降低非常明显。

发明内容

为解决上述技术问题,本发明提供了一种单颗LED芯片微小化多色发光处理方法,其包括以下步骤:

S1:将蓝光芯片上表面分为A区域、B区域、C区域三个区域,先在蓝光芯片表面涂上荧光胶A和光刻胶,对B区域、C区域进行曝光,对A区域进行显影,去除显影部分的光刻胶A,去除曝光区域的荧光胶A;

S2:在蓝光芯片表面涂上荧光胶B与光刻胶,对B曝光进行显影,对A区域、C区域进行曝光,去显影区域的光刻胶和曝光区域荧光胶B;

S3:在蓝光芯片表面涂抹荧光胶C和光刻胶,对A区域、B区域进行曝光,对C区域进行显影,去显影区域的光刻胶和曝光区域荧光胶C;最后得到得到蓝光芯片搭配荧光胶A、荧光胶B、荧光胶C,所述A区域、B区域、C区域表面分别附有荧光胶A、荧光胶B、荧光胶C。

较佳地,所述光刻胶A为使芯片发红光的荧光胶,所述光刻胶B使芯片发蓝光的荧光胶,所述光刻胶C为使芯片发绿光的荧光胶。

本发明具有以下有益效果:

本发明可实现微小化,同颗芯片做到以um为单位的小区域RGB单色光发光区域,以满足如今清晰度越来越高的液晶面板的要求;

利用大芯片、倒装或者CSP芯片,减低固晶、打线的次数和难度;

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