[发明专利]基板处理装置及基板处理方法

说明书

一种包括旋转台和基板旋转保持装置的基板处理装置和基板处理方法。基板旋转保持装置设置成与旋转台一同绕沿铅垂方向的旋转轴线旋转且包括将基板水平地支撑的多个支撑销，支撑销包括具有支撑部的可动销，支撑部设置为可在与基板周缘部抵接的抵接位置与比抵接位置远离旋转轴线的开放位置间移动；基板处理装置还包括驱动用磁铁，其与可动销对应设置且在旋转台的径向上具有规定的磁极方向；按压用磁铁，具有在其与驱动用磁铁之间提供磁吸引力或磁排斥力的磁极，该磁吸引力或者该磁排斥力使支撑部推向抵接位置而使支撑部按压于基板的周缘部；按压力变动单元，其随着旋转台的旋转，将支撑部按压基板的周缘部的按压力大小保持为大于零的同时使大小变动。

技术领域

本发明涉及一种基板处理装置和基板处理方法。作为被处理基板，例如可以举出半导体晶片、液晶显示装置用基板、等离子显示器用基板、FED(场发射显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、磁光盘用基板、光掩模、陶瓷基板、太阳能电池用基板等。

背景技术

专利文献US2013/0152971 A1中公开了旋转式基板保持旋转装置，该基板保持旋转装置包括：能够以沿铅垂方向的旋转轴线为轴旋转的旋转台、使旋转台以所述旋转轴线为轴旋转的旋转驱动单元、配置在旋转台上且用于使基板水平地定位在从旋转台表面以规定间隔隔开的位置的多个(例如4个)保持销。

多个保持销包括：相对旋转台固定的固定销和相对旋转台可动的可动销。可动销具有抵接部，该抵接部被设置成能够以与其中心轴线同轴的旋转轴线为轴进行旋转并且与基板的周端缘抵接。抵接部通过自身的旋转而在自旋转轴线离开的开放位置和离旋转轴线近的抵接位置之间位移。在抵接部的旋转轴上结合有销驱动用磁铁。

可动销的开闭的切换是利用配置在旋转台下方的升降磁铁来进行的(磁铁切换方式)。在升降磁铁上结合有磁铁升降单元。当升降磁铁位于规定的下位置时，升降磁铁不与销驱动用磁铁相对，因此，对可动销不施加将该可动销朝向抵接位置的外力。因此，当升降磁铁位于下位置时，可动销变为被保持在开放位置。另外，当升降磁铁位于规定的上位置时，可动销因升降磁铁与销驱动用磁铁之间的磁吸引力而被保持在抵接位置。

另外，上述基板保持旋转装置包括一张一张地处理基板的单张式基板处理装置，处理液(清洗药液)从处理液喷嘴供给到由基板保持旋转装置旋转的基板的上表面上。供给到基板的上表面上的处理液受到因基板的旋转而产生的离心力流向基板的周缘部。由此，基板的整个上表面和基板的周端面被进行液处理。另外，随着基板处理的种类不同，基板下表面的周缘部有时也需要进行液处理。

然而，在专利文献US2013/0152971 A1所记载的构成中，在进行液处理期间，利用多个(例如4个)保持销始终接触并支撑基板，因此，处理液不流入基板的周端面中多处与保持销抵接的位置，可能在基板的周缘部(基板的周端面和基板的下表面的周缘部)存在未被处理的部分。

本发明人研究了在基板的旋转处理(液处理)中，一边用支撑销接触并支撑基板的周缘部一边使基板的周缘部中的接触支撑位置向周向错开的技术。

发明内容

于是，本发明的目的在于提供这样的基板处理装置及基板处理方法：在基板的旋转处理中，能够一边用支撑销接触并支撑基板的周缘部，一边使基板的周缘部中的接触支撑位置向周向错开，由此，能够良好地对基板的周缘部进行处理而其中不留下未被处理的部分。