[发明专利]形成自清洁膜系统的方法

说明书

一种形成自清洁膜系统的方法，其包括将全氟化碳硅氧烷聚合物沉积到基底上以形成第一层。该方法还包括移除第一层的多个部分以在第一层中限定多个空腔，并且形成从基底突出的多个突起。该方法包括将光催化材料沉积到所述多个突起上并且沉积到所述多个空腔中以形成第二层，该第二层包括：设置在多个空腔中并与基底接触的结合部分和设置在多个突起上并与基底间隔开的非结合部分。该方法还包括在沉积光催化材料之后，移除非结合部分，从而形成自清洁膜系统。

技术领域

本发明涉及自清洁膜系统和形成自清洁膜系统的方法。

背景技术

诸如显示系统的装置通常被设计为由操作者触摸。例如，车辆可以包括经由触摸屏向操作者呈现信息的显示系统。类似地，自动柜员机或电话亭可以包括通过触摸而激活的显示系统。

诸如相机和眼镜的其它装置通常包括在使用期间可能被操作者无意触摸的透镜表面。此外，诸如车辆、窗户、镜子、电器、橱柜、家具、蜂窝电话、指纹扫描仪、传感器、复印机、医疗仪器和柜台的其它装置还可以包括可由操作者触摸的一个或多个表面。因此，在使用期间，操作者可以将指纹和/或油沉积到这类的装置和表面上。

发明内容

本发明提供了一种形成自清洁膜系统的方法，其包括将全氟化碳硅氧烷聚合物沉积到基底上以形成第一层。该方法还包括移除第一层的多个部分，以在第一层中限定多个空腔，并且形成从基底突出的多个突起。该方法还包括将光催化材料沉积到多个突起上并且进入多个空腔中以形成第二层。第二层包括设置在多个空腔中并与基底接触的结合部分和设置在多个突起上并与基底间隔开的非结合部分。该方法还包括在沉积光催化材料之后移除非结合部分，从而形成自清洁膜系统。

在一个方面，沉积光解材料可以包括在多个空腔内将光催化材料化学结合到基底。该方法还可包括在移除非结合部分之后，移除多个突起。此外，该方法可以包括在移除多个突起之后，再沉积全氟化碳硅氧烷聚合物。再沉积可包括将全氟化碳硅氧烷聚合物擦涂到基底上，使得全氟化碳硅氧烷聚合物接触结合部分。

在另一方面，该方法还可以包括接触的结合部分和角鲨烯。该方法还可以包括氧化角鲨烯。在另一方面，该方法可以进一步包括蒸发角鲨烯。

在另一实施例中，该方法包括将光催化材料沉积到基底上以形成第一层，以及将光致抗蚀剂设置在第一层上。在设置光致抗蚀剂之后，该方法包括使光致抗蚀剂曝光，以使得光致抗蚀剂具有显影部分和未显影部分。该方法还包括移除未显影部分，使得显影部分从第一层突出。在移除之后，该方法包括将全氟化碳硅氧烷聚合物沉积到第一层上以围绕和接触显影部分。在沉积全氟化碳硅氧烷聚合物之后，该方法包括移除显影部分，从而形成自清洁膜系统。

在一个方面，移除未显影部分可以包括覆盖第一层的保护部分。此外，移除未显影部分可以包括不覆盖第一层的未保护部分。该方法还可包括在移除未显影部分之后，移除所述第一层的未保护部分。

本发明还提供了一种用于基底的自清洁膜系统，其包括设置在基底上的膜。该膜由自清洁涂料组合物形成，其中自清洁涂料组合物包含光催化材料和全氟化碳硅氧烷聚合物。

在一个方面，该膜可以具有第一表面和与第一表面相反地间隔开并邻接基底的第二表面。第一表面可以基本上没有角鲨烯。基底可以由二氧化硅形成。在另一方面，基底可以由包括二氧化硅和二氧化钛的交替层的抗反射涂层形成。全氟化碳硅氧烷聚合物可以是全氟化的有机硅氧烷。

光催化材料可以是二氧化钛并且可以以金红石形式存在。在另一方面，光催化材料可以是二氧化钛并且可以以锐钛矿形式存在。可替代地，光催化材料可以是二氧化钛，并且可以以金红石形式和锐钛矿形式的组合形式存在。

从下面结合附图对用于实行本公开的最佳模式的详细描述中，本公开的上述特征和优点以及其它特征和优点将显而易见。

附图说明

图1是自清洁膜系统的前视图的示意图。