[发明专利]一种全视角TN负显模式LCD制作工艺

权利要求书

1.一种全视角TN负显模式LCD制作工艺，其特征在于，包括以下步骤：

A.制作显示图案：通过涂胶、曝光、显影、蚀刻和脱膜的依次顺序在ITO基板上制作显示图案和线路分布；

B.印刷光学薄膜：先清洗显示图案表面的杂质、灰尘后，利用涂胶机将光阻剂均匀的涂布在显示图案表面，然后对光阻剂进行曝光、显影，在显示区的表面形成一层约800-1200埃的光学薄膜，最后用洁净烘箱将光学薄膜在120±5℃温度下烘烤30分钟，使其牢固的粘附在显示图案的表面；

C.PI印刷：在光学薄膜表面印刷PI层，并在PI层的表面利用带毛的摩擦轮进行摩擦产生微小、一致的沟槽，使液晶分子能够沿着沟槽排列；

D.密封胶印刷：在显示图案边缘印刷密封胶，将COM和SEG单元进行密封并固定；

E.喷洒衬底料：在PI层表面均匀的喷洒衬底料，衬底料在喷洒管中快速流动与管侧摩擦产生静电，带电的衬底料相互排斥，使之均匀分散；

F.成盒：通过在高温箱内压烤固化，将COM和SEG单元粘接起来，制成均匀厚度的LCD盒体。

2.根据权利要求1所述的一种全视角TN负显模式LCD制作工艺，其特征在于：步骤B中，显示图案表面的清洗采用清洗剂和毛刷进行初次清洗，然后利用DI纯净水和超声波清洗进行二次清洗，最后使用气刀对表面进行喷干。

3.根据权利要求1所述的一种全视角TN负显模式LCD制作工艺，其特征在于：步骤B中，涂胶机包括支持轮、光刻轮、匀胶轮、涂胶轮和热板，胶滴入匀胶轮与涂胶轮的夹缝中，涂胶轮上的凹槽将胶转移到ITO表面，热板将玻璃加热使溶剂挥发。

4.根据权利要求1所述的一种全视角TN负显模式LCD制作工艺，其特征在于：步骤B中，在曝光和显影时，采用UV光对菲林或铬板材料进行照射产生化学变化。

5.根据权利要求1所述的一种全视角TN负显模式LCD制作工艺，其特征在于：步骤C中，在对PI面进行摩擦时，摩擦轮顺时针旋转时，PI面的移动方向水平向右移动，摩擦轮逆时针旋转时，PI面的移动方向水平向左移动；摩擦轮的转速保持在10-15转/秒，PI面的移动速度保持在1-1.5米/分，摩擦轮上刷毛与PI面接触的长度为5-8微米。