[发明专利]一种基于光强调制型MOEMS加速度计

权利要求书

1.一种基于光强调制型MOEMS加速度计，包括从下到上依次设置的衬底层(10)、中间层(11)以及器件层(12)，其特征在于：器件层(12)中部设置有质量块(2)，质量块(2)通过四个直连接梁(1)固支于锚点(9)，质量块(2)的上下两边对称设有V形镜(4)，V形镜(4)正对面设有输入光纤卡槽(5)，输入光纤卡槽(5)的两侧对称设有输出光纤卡槽(6)。

2.根据权利要求1所述的一种基于光强调制型MOEMS加速度计，其特征在于：所述质量块(2)上设置有均匀密布的腐蚀孔(3)。

3.根据权利要求1或2所述的一种基于光强调制型MOEMS加速度计，其特征在于：所述输入光纤卡槽(5)和输出光纤卡槽(6)内均预设光纤夹(7)。

4.根据权利要求3所述的一种基于光强调制型MOEMS加速度计，其特征在于：所述输入光纤卡槽(5)和输出光纤卡槽(6)靠近V形镜(4)的一端设置有凸台(8)。

5.根据权利要求1或4所述的一种基于光强调制型MOEMS加速度计，其特征在于：所述V形镜(4)的角度为120度，或为90度。

6.根据权利要求5所述的一种基于光强调制型MOEMS加速度计的制造工艺，其特征在于，按照以下工艺进行制造：

1)图形化：在SOI晶元片上旋涂光刻胶，竖膜曝光后显影，形成有图样的光刻胶掩膜；

2)深硅刻蚀：采用深硅刻蚀的方法刻蚀出器件层(12)的厚度；

3)去胶和腐蚀：采用47％浓度的HF酸溶液去除质量块(2)下的sio₂，同时保证锚点(9)不会脱落；

4)溅射金属：在器件层(12)表面溅射金，保证V形镜(4)侧壁溅射有金属金；

5)光纤组装：在光纤卡槽中装入一个输入光纤以及两个输出光纤即可。