[发明专利]一种光配向设备及光配向方法在审

专利信息
申请号: 201710017740.X 申请日: 2017-01-11
公开(公告)号: CN106773337A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 周永山;李东朝 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司11243 代理人: 许静,刘伟
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 设备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种光配向设备及光配向方法。

背景技术

液晶显示器(TFT-LCD)技术经过最近几十年的发展,技术和工艺日趋成熟。已经取代冷阴二极管(CCFL)显示器,成为显示领域的主流产品。LCD的生产过程中,为了使液晶分子能够正常配向,需要在阵列基板和彩膜基板的表面涂上一层取向膜,实现对液晶分子的配向。

目前光配向的技术已经成熟的应用到小世代线的基板制造上,由于小世代线的基板尺寸较小,对应的线性光源的目前可以均匀照射整张基板上的取向膜,均匀得配向取向膜线。

但是,由于高世代线的基板尺寸较大,需要更大尺寸的光源。但是目前线性光源的设计技术,一旦光源的尺寸增加较大,其照射的均匀性将会大为降低,照射均匀性是光配向均匀的关键,一旦配向不均匀将会带来显示的严重问题。这也是目前高世代线一直未引入光配向的主要原因。

发明内容

本发明提供一种光配向设备及光配向方法,用以解决高世代线的取向膜无法实现光配向的问题。

为解决上述技术问题,本发明实施例中提供一种光配向设备,用于对基板上的光配向膜进行配向,所述光配向设备包括工作平台和光源组件,所述基板放置于所述工作平台的朝向所述光源组件的表面上;所述光源组件包括光源和设置在所述光源的出光侧的偏振片,所述光源发出的光线经过所述偏振片后形成均匀分布的线性偏振光,所述基板包括至少两个配向区域,所述配向区域的一侧边的宽度不大于所述线性偏振光的照射区域的长度;

所述光配向设备还包括:

调整机构,用于改变所述基板和光源组件之间的位置关系,使所述基板的所有配向区域依次与所述光源组件的位置对应,以使所有配向区域的光配向膜依次被线性偏振光照射完成配向;

遮挡板,用于当所述光源组件与一配向区域的位置对应时,阻挡光线照射除所述一配向区域之外的其他配向区域。

本发明实施例中还提供一种利用如上所述的光配向设备对基板上的光配向膜进行光配向的方法,包括:

提供一光源组件,所述光源组件出射的光线为线性偏振光;

将所述基板放置于工作平台的表面上;

利用所述线性偏振光照射所述光配向膜,以对所述光配向膜进行配向,所述基板包括至少两个配向区域,所述配向区域的一侧边的宽度不大于所述偏振片的长度;

利用所述线性偏振光照射所述光配向膜,以对所述光配向膜进行配向的步骤包括:

步骤S1、将所述基板的一配向区域与所述光源组件的位置对应,并利用遮挡板阻挡光线照射除所述一配向区域之外的其他配向区域,然后对所述一配向区域的光配向膜进行配向;

步骤S2、改变所述基板和光源组件之间的位置关系,使所述基板的另一配向区域与所述光源组件的位置对应,并移动遮挡板,利用遮挡板阻挡光线照射除所述另一配向区域之外的其他配向区域,然后对所述另一配向区域的光配向膜进行配向;

步骤S3、重复步骤S2,完成对所有配向区域的光配向膜的配向。

本发明的上述技术方案的有益效果如下:

上述技术方案中,通过将基板分为多个配向区域,对每一配向区域独立配向,依次完成所有配向区域的配向。由于每一配向区域的尺寸较小,小尺寸的光源能够均匀照射所述配向区域完成配向。并在对一配向区域进行配向时,通过遮挡板阻挡光线照射除所述一配向区域之外的其他配向区域,使其他配向区域不被不均匀的光线照射,避免出现不均匀照射造成配向区域配向不均匀的问题,从而保证所有配向区域配向均匀。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1表示本发明实施例中配向设备的结构示意图一;

图2表示图1中工作平台的俯视图一;

图3表示图1的主视图;

图4表示本发明实施例中的工作平台的俯视图二;

图5表示本发明实施例中配向设备的结构示意图二;

图6表示图5中工作平台的俯视图三;

图7表示图5的主视图;

图8表示本发明实施例中的工作平台的俯视图四。

具体实施方式

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