[发明专利]一种光配向设备及光配向方法在审

专利信息
申请号: 201710017740.X 申请日: 2017-01-11
公开(公告)号: CN106773337A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 周永山;李东朝 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司11243 代理人: 许静,刘伟
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 设备 方法
【权利要求书】:

1.一种光配向设备,用于对基板上的光配向膜进行配向,所述光配向设备包括工作平台和光源组件,所述基板放置于所述工作平台的朝向所述光源组件的表面上;所述光源组件包括光源和设置在所述光源的出光侧的偏振片,所述光源发出的光线经过所述偏振片后形成均匀分布的线性偏振光,其特征在于,所述基板包括至少两个配向区域,所述配向区域的一侧边的宽度不大于线性偏振光的照射区域的长度;

所述光配向设备还包括:

调整机构,用于改变所述基板和光源组件之间的位置关系,使所述基板的所有配向区域依次与所述光源组件的位置对应,以使所有配向区域的光配向膜依次被线性偏振光照射完成配向;

遮挡板,用于当所述光源组件与一配向区域的位置对应时,阻挡光线照射除所述一配向区域之外的其他配向区域。

2.根据权利要求1所述的光配向设备,其特征在于,所述光源组件固定设置,所述调整机构与所述工作平台连接,用于驱动所述工作平台移动,来改变所述基板和光源组件之间的位置关系。

3.根据权利要求2所述的光配向设备,其特征在于,所述调整机构还用于将整个所述工作平台移动至线性偏振光的照射区域以外的区域。

4.根据权利要求1所述的光配向设备,其特征在于,所述光配向设备还包括:

设置在所述工作平台上的滑轨;

滑动设置在所述滑轨上的滑块,所述滑块可沿所述滑轨滑动,所述遮挡板固定在所述滑块上,所述滑块在所述滑轨上的滑动带动所述遮挡板移动。

5.根据权利要求4所述的光配向设备,其特征在于,所述遮挡板与所述工作平台的表面平行设置。

6.根据权利要求4所述的光配向设备,其特征在于,所述遮挡板与所述工作平台的表面垂直设置。

7.根据权利要求4所述的光配向设备,其特征在于,所述基板的至少两个配向区域同行设置;

所述光配向设备包括两条滑轨,所述两条滑轨位于所述基板的相对两侧,且所述滑轨的延伸方向与行方向平行;

所述滑块为条状结构,一端滑动设置在其中一条滑轨上,另一端滑动设置在另一条滑轨上。

8.根据权利要求2-7任一项所述的光配向设备,其特征在于,所述光源为条形光源,所述光配向设备还包括:

扫描驱动机构;

控制单元,与所述调整机构和扫描驱动机构连接,用于控制所述调整机构驱动所述工作平台移动,使一配向区域的一侧边与所述光源组件的位置对应,然后控制所述扫描驱动机构驱动所述工作平台沿垂直于所述侧边的方向移动,使线性偏振光通过线性扫描的方式完成对整个配向区域的配向,所述线性偏振光的偏振方向与条形光源的延伸方向一致。

9.一种利用权利要求1-8任一项所述的光配向设备对基板上的光配向膜进行光配向的方法,包括:

提供一光源组件,所述光源组件出射的光线为线性偏振光;

将所述基板放置于工作平台的表面上;

利用所述线性偏振光照射所述光配向膜,以对所述光配向膜进行配向,其特征在于,所述基板包括至少两个配向区域,所述配向区域的一侧边的宽度不大于所述偏振片的长度;

利用所述线性偏振光照射所述光配向膜,以对所述光配向膜进行配向的步骤包括:

步骤S1、将所述基板的一配向区域与所述光源组件的位置对应,并利用遮挡板阻挡光线照射除所述一配向区域之外的其他配向区域,然后对所述一配向区域的光配向膜进行配向;

步骤S2、改变所述基板和光源组件之间的位置关系,使所述基板的另一配向区域与所述光源组件的位置对应,并移动遮挡板,利用遮挡板阻挡光线照射除所述另一配向区域之外的其他配向区域,然后对所述另一配向区域的光配向膜进行配向;

步骤S3、重复步骤S2,完成对所有配向区域的光配向膜的配向。

10.根据权利要求9所述的光配向方法,其特征在于,步骤S2中,具体为:

首先将整个所述工作平台移动至线性偏振光的照射区域以外的区域,之后移动遮挡板,所述遮挡板阻挡光线照射除所述另一配向区域之外的其他配向区域,然后驱动所述工作平台移动,使所述另一配向区域与所述光源组件的位置对应。

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