[发明专利]氧化镎靶件芯块制备工艺有效

专利信息
申请号: 201710007383.9 申请日: 2017-01-05
公开(公告)号: CN106847353B 公开(公告)日: 2018-07-06
发明(设计)人: 尹邦跃;屈哲昊;郑新海 申请(专利权)人: 中国原子能科学研究院
主分类号: G21C21/02 分类号: G21C21/02;G21C3/62;C04B35/51;C04B35/622
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 102413 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 靶件 芯块 制备工艺 氧化镁粉末 装载量 高热导率 化学溶解 混合粉末 冷压成型 无压烧结 辐照 工艺流程 核材料 硬脂酸 初混 生坯 制备 生产成本 取出 燃料
【权利要求书】:

1.一种氧化镎靶件芯块制备工艺,其特征在于该工艺包括以下步骤:

(一)根据需要取氧化镎粉末与氧化镁粉末作为靶件芯块原料,其中,氧化镁粉末的质量占二者总质量的1-10%;

(二)在所述氧化镎粉末中,取出占所述氧化镁粉末质量0.5-4倍的氧化镎粉末,将取出的氧化镎粉末与所述氧化镁粉末在三维运动混合机内混合4h以上,得到初混粉末;

(三)将剩余的氧化镎粉末和硬脂酸加入三维运动混合机内,使之与前述初混粉末继续混合2h以上,得到混合粉末;其中,硬脂酸的加入量占全部氧化镎粉末与氧化镁粉末总质量的0.2-0.8%;

(四)采用300~600MPa压力对所述混合粉末进行冷压成型,保压时间30-120s,制成靶件芯块生坯;

(五)在保护气氛条件下,采用无压烧结工艺对制得的靶件芯块生坯进行烧结,烧结温度为1550~1850℃,制得氧化镎靶件芯块。

2.如权利要求1所述的氧化镎靶件芯块制备工艺,其特征在于:所述保护气氛采用惰性气体保护或真空保护。

3.如权利要求1所述的氧化镎靶件芯块制备工艺,其特征在于:所述保护气氛为含体积百分比为5%H2的Ar还原性保护气氛。

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