[发明专利]一种信号线的修复系统及修复方法

说明书

本发明公开了一种信号线的修复系统及修复方法，修复系统包括分别用于形成修复线和绝缘层的第一、第二修复装置；针对交叉的两条信号线在交叉处发生断路的情况，先利用第一修复装置对其中一条信号线进行修复，再利用第二修复装置形成绝缘层，最后利用第一修复装置对另一条信号线进行修复，这样，既可避免两条信号线之间短路，又可避免将其中一条信号线的修复线设计为远离另一条信号线的修复线而增加修复失败的风险；针对在交叉的两条信号线形成后检出下方的信号线在交叉处发生断路的情况，先利用第二修复装置形成绝缘层，再利用第一修复装置对下方的信号线进行修复，这样，既可避免两条信号线之间短路，又可避免因修复不及时导致的漏检漏修风险。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种信号线的修复系统及修复方法。

背景技术

在显示基板的制作过程中，由于工艺偏差、操作失误以及环境等因素，会导致信号线发生断路的问题。针对这类问题，一般采用化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)设备沉积金属材料形成修复线，将断开的两段信号线电性连接。

以液晶显示面板中的阵列基板为例，如图1a所示，在形成有栅线101的衬底基板102上形成数据线103的图形之后，检测出栅线101在栅线101与数据线103的交叉位置处(如图1a所示的虚线框所示)发生断路，此时，如图1b所示，若采用CVD设备在栅线101的断开处形成栅线修复线104，栅线修复线104通过第一过孔105与断开的两段栅线101电性连接，由于数据线103的上方尚未形成绝缘层，形成的栅线修复线104会与数据线103直接接触，从而会导致栅线101与数据线103发生短路的问题，然而，若待阵列基板制作完成之后再采用CVD设备对发生断路的栅线101进行修复，则会存在漏检漏修的风险。如图2a所示，在阵列基板制作完成之后，检测出栅线101和数据线103在栅线101与数据线103的交叉位置处(如图1b所示的虚线框所示)发生断路，此时，如图2b所示，若采用CVD设备在栅线101的断开处形成栅线修复线104以及在数据线103的断开处形成数据线修复线106，栅线修复线104通过第一过孔105与断开的两段栅线101电性连接，数据线修复线106通过第二过孔107与断开的两段数据线103电性连接，形成的栅线修复线104与数据线修复线106会直接接触，从而会导致栅线101与数据线103发生短路的问题，然而，如图2c所示，若将栅线修复线104设计为刻意远离数据线修复线106的形状，则会存在由于栅线修复线104过长而增加修复失败的风险的问题。

可见，采用现有的CVD设备对发生断路的信号线进行修复，会存在交叉的信号线之间发生短路、漏检漏修或修复失败等风险，因此，如何提供一种能够避免上述修复风险的信号线的修复系统，是本领域技术人员亟需解决的技术问题。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供了一种信号线的修复系统及修复方法，用以避免在采用现有的CVD设备对发生断路的信号线进行修复时存在交叉的信号线之间发生短路、漏检漏修或修复失败等风险。

因此，本发明实施例提供了一种信号线的修复系统，包括：用于形成导电的修复线的第一修复装置和用于形成绝缘层的第二修复装置。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述修复系统中，所述第一修复装置，包括：第一反应腔室以及分别与所述第一反应腔室连通的用于传输第一反应物的第一输入管道和用于传输反应后的第一废弃物的第一输出管道；其中，所述第一反应腔室具有贯穿所述第一反应腔室的第一中通孔；

所述第二修复装置，包括：第二反应腔室以及分别与所述第二反应腔室连通的用于传输第二反应物的第二输入管道和用于传输反应后的第二废弃物的第二输出管道；其中，所述第二反应腔室具有贯穿所述第二反应腔室的第二中通孔。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述修复系统中，还包括：用于使所述第一反应腔室在所述第一中通孔处处于开放状态或封闭状态且使所述第二反应腔室在所述第二中通孔处处于开放状态或封闭状态的开关；其中，