[发明专利]蒸镀掩模、蒸镀装置、蒸镀掩模的制造方法、电致发光显示装置的制造方法

说明书

蒸镀掩模(1)为由金属掩模(10)和树脂掩模(20)层叠而形成的蒸镀掩模，金属掩模(10)具有至少1个金属掩模开口(11)，树脂掩模(20)具有多个树脂掩模开口(21)，其中，从金属掩模开口(11)露出的、在X轴方向的各位置沿着Y轴方向配置的至少1个树脂掩模开口(21)的Y轴方向的总开口长度，随着从X轴方向的中央部向Y轴方向的两端部去而变长。

技术领域

本发明涉及蒸镀掩模、蒸镀装置、蒸镀掩模的制造方法和电致发光显示装置的制造方法。

背景技术

近年来，在多种商品和领域中使用了平板显示器，要求平板显示器进一步大型化、高画质化、低耗电化。

在这样的状况下，包括利用有机材料或无机材料的电致发光(Electroluminescence；下面记为“EL”)的EL元件的EL显示装置，作为全固体型且在低电压驱动、高速响应性、自发光性等方面优异的平板显示器，受到了高度关注。

EL显示装置为了实现全色显示，具有与构成像素的多个子像素对应地射出期望的颜色的光的发光层。

在形成发光层的图案时，例如使用真空蒸镀法，在真空蒸镀法中使用被称为阴影掩模的蒸镀掩模。

为了实现高精细的EL显示装置，需要使蒸镀颗粒高精度地蒸镀在被成膜基板上，要求在蒸镀掩模上形成高精度的开口部。

以往，蒸镀掩模通常使用对由金属板构成的掩模基材进行加工而制作的具有规定图案的开口部的金属掩模。蒸镀掩模通常固定在掩模框中使用。

然而，利用目前的金属加工技术，难以在金属板上高精度地形成开口部。在蒸镀掩模使用金属掩模的情况下，由于由金属板的热膨胀引起的位置偏移或翘曲等的影响，难以形成高精细的蒸镀膜图案。

特别是，近年来，在EL显示装置领域，也与液晶显示装置领域同样，为了实现进一步的高画质化，要求增加显示装置的每英寸的像素数(ppi：pixel per inch)。然而，在使用利用金属掩模进行的分涂蒸镀方法的情况下，由于金属掩模本身的开口位置精度和开口图案精度、即金属掩模的加工精度的极限，难以在基板上形成与300ppi以上对应的高精细的蒸镀膜。

当蒸镀掩模使用仅由金属构成的蒸镀掩模时，伴随着蒸镀掩模的大型化，其质量增大，包括掩模框等支承体在内的总质量也增大，因此，给处理带来障碍。

因此，近年来，以轻量化和提高开口精度为目的，提出了构成蒸镀掩模的掩模基材的一部分使用树脂的复合型的蒸镀掩模(例如参照专利文献1)。

另一方面，作为被成膜基板使用大型基板的大型基板成膜技术，不需要与大型的被成膜基板同等大小的蒸镀掩模和蒸镀源的扫描蒸镀法受到了关注(例如参照专利文献2)。

在扫描蒸镀法中，使用比被成膜基板小的蒸镀掩模和蒸镀源(蒸镀颗粒射出装置)，使被成膜基板和蒸镀单元中的至少一者相对于另一者相对移动，来进行一边扫描被成膜基板一边进行成膜的扫描成膜，其中，上述蒸镀单元包括蒸镀掩模和蒸镀源。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本公开特许公报“特开2013-165060号(2013年8月22日公开)”

专利文献2：日本公开特许公报“特开2011-140717号(2011年7月21日公开)”

发明内容

发明要解决的技术问题

然而，从蒸镀源的蒸镀源开口射出的蒸镀颗粒的飞散量具有分布，通常，蒸镀源开口的正上方具有极大值，在俯视时，随着远离蒸镀源开口而降低。

因此，当在该状态下直接进行扫描蒸镀时，由于由蒸镀膜的膜厚引起的发光亮度的差异，例如会产生线条不均匀发光等发光不良。