[发明专利]化合物半导体器件有效
| 申请号： | 201680090265.2 | 申请日： | 2016-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN109891562B | 公开（公告）日： | 2022-04-26 |
| 发明（设计）人： | 佐佐木肇 | 申请（专利权）人： | 三菱电机株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/338 | 分类号： | H01L21/338;H01L29/778;H01L29/812 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 何立波;张天舒 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化合物 半导体器件 | ||
【权利要求书】：
1.一种化合物半导体器件，其特征在于，具备：
衬底；
半导体层，其形成于所述衬底之上；
栅极电极、源极电极以及漏极电极，它们形成于所述半导体层之上；以及
强关联电子体系材料，其连接在所述栅极电极与所述源极电极之间，是在由于高能粒子的穿过而在器件内产生了电子-空穴对时对所述器件内的电位变动进行感知，从绝缘体向导电体进行相变的MOTT绝缘体。
2.一种化合物半导体器件，其特征在于，具备：
衬底；
半导体层，其形成于所述衬底之上；
栅极电极、源极电极以及漏极电极，它们形成于所述半导体层之上；以及
强关联电子体系材料，其连接在所述源极电极与所述漏极电极之间，是在由于高能粒子的穿过而在器件内产生了电子-空穴对时对所述器件内的电位变动进行感知，从绝缘体向导电体进行相变的MOTT绝缘体。
3.根据权利要求1或2所述的化合物半导体器件，其特征在于，
所述强关联电子体系材料配置于所述衬底之上。
4.根据权利要求3所述的化合物半导体器件，其特征在于，
所述强关联电子体系材料夹在基底电极与上层电极之间。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
