[发明专利]超声波清洗设备以及利用其的超声波清洗方法在审
| 申请号： | 201680081755.6 | 申请日： | 2016-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN109070151A | 公开（公告）日： | 2018-12-21 |
| 发明（设计）人： | 池佑鎭;徐己弘 | 申请（专利权）人： | EO科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/02 | 分类号： | B08B7/02;B23K26/60;B23K26/70 |
| 代理公司： | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人： | 梁天彦 |
| 地址： | 韩国京畿道*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 加工材料 超声波清洗设备 超声波 超声波发生器 超声波清洗 清洗单元 射出 水平方向移动 方式设置 内部设置 清洗工艺 上下方向 上表面 下表面 清洗 | ||
1.一种超声波清洗设备，其特征在于，利用超声波对加工材料的表面进行清洗，所述超声波清洗设备包括：
第一清洗单元，以能够沿上下方向及水平方向移动的方式设置，所述第一清洗单元包括向所述加工材料的上表面侧射出超声波的上部超声波发生器；以及
第二清洗单元，在进行清洗工艺时，在所述第二清洗单元内部设置所述加工对象物，所述第二清洗单元包括向所述加工材料的下表面侧射出超声波的下部超声波发生器。
2.根据权利要求1所述的超声波清洗设备，其特征在于，所述第一清洗单元还包括向所述加工材料的彼此相对的两侧面侧射出超声波的侧面超声波发生器。
3.根据权利要求1所述的超声波清洗设备，其特征在于，所述第一清洗单元还包括：第一侧面超声波发生器，向所述加工材料的彼此相对的第一两侧面侧射出超声波；以及第二侧面超声波发生器，向所述加工材料的彼此相对的第二两侧面侧射出超声波。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的超声波清洗设备，其特征在于，所述第二清洗单元还包括：容器；及清洗液，所述清洗液填充至所述容器的内部，以便浸泡所述加工材料。
5.根据权利要求4所述的超声波清洗设备，其特征在于，所述清洗液包括去离子水(DIwater)。
6.根据权利要求4所述的超声波清洗设备，其特征在于，所述下部超声波发生器设置至所述容器的底部，所述加工材料设置至所述下部超声波发生器上。
7.根据权利要求6所述的超声波清洗设备，其特征在于，所述加工材料以通过支持台而远离所述下部超声波发生器的上表面的方式设置。
8.根据权利要求6所述的超声波清洗设备，其特征在于，所述加工材料安装至治具(jig)而设置至所述容器的内部。
9.根据权利要求4所述的超声波清洗设备，其特征在于，在进行清洗工艺时，所述上部超声波发生器以与所述清洗液接触的方式设置。
10.一种超声波清洗方法，其特征在于，利用超声波清洗设备对加工材料的表面进行清洗，所述超声波清洗设备包括：第一清洗单元，以能够沿上下方向及水平方向移动的方式设置，所述第一清洗单元包括上部超声波发生器；以及第二清洗单元，包括下部超声波发生器，所述超声波清洗方法包括：
所述上部超声波发生器向所述加工材料的上表面侧射出超声波而对所述加工材料的所述上表面进行清洗；以及
所述下部超声波发生器向所述加工材料的下表面侧射出超声波而对所述加工材料的所述下表面进行清洗。
11.根据权利要求10所述的超声波清洗方法，其特征在于，同时或依次清洗所述加工材料的所述上表面及所述加工材料的所述下表面。
12.根据权利要求10所述的超声波清洗方法，其特征在于，所述第二清洗单元还包括容器以及填充至所述容器的内部的清洗液。
13.根据权利要求12所述的超声波清洗方法，其特征在于，还包括：
以远离所述第二清洗单元的方式移动所述第一清洗单元；
将所述加工材料设置至所述容器的所述清洗液的内部；以及
向所述第二清洗单元侧移动所述第一清洗单元。
14.根据权利要求13所述的超声波清洗方法，其特征在于，所述加工材料以远离所述下部超声波发生器的上表面的方式设置。
15.根据权利要求13所述的超声波清洗方法，其特征在于，所述加工材料安装至治具(jig)而设置至所述容器的内部。
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