[发明专利]臭氧供给装置以及臭氧供给方法

说明书

臭氧供给装置包括臭氧产生器(2)、吸附塔(3)、待机部(7)、减压装置(8)、臭氧供给部(9)、低温制冷剂循环器(5)和控制部(10)，所述控制部(10)使生成的臭氧化气体吸附于冷却后的吸附剂(4)，将吸附于吸附剂(4)的臭氧化气体解吸并浓缩，控制部(10)使自吸附塔(3)的吸附剂(4)解吸出来的臭氧化气体在待机部(7)待机的待机状态时的吸附塔(3)内的压力低于吸附时的吸附塔(3)内的压力。

技术领域

本发明涉及利用吸附现象将臭氧浓缩以及储藏的臭氧供给装置以及臭氧供给方法。

背景技术

臭氧作为强力的氧化剂利用在水环境净化、半导体清洗等涉及多方面的领域，随着近年来的环境意识的高涨，对高浓度且高效率的臭氧产生技术的要求日益增高。单一的臭氧产生器所产生的臭氧的纯度的上限值为20％左右的体积分率，由于臭氧具有自分解的性质，所以难以进行常温下的气相保管。为了进行间歇性的臭氧处理，需要每次都产生臭氧。公开了利用吸附现象进行臭氧的储藏以及浓缩，间歇性地供给高纯度的臭氧化气体的方法(例如专利文献1、2)。另外，公开了为了将储藏的臭氧解吸而减压吸附塔的方法(例如专利文献3)和升温吸附塔的方法(例如专利文献2)。在上述专利文献1-3的公开发明中，由于是在产生了需要后进行臭氧的解吸，所以存在无法针对臭氧要求即刻供给臭氧的问题。

针对该问题，公开了一种方法，设置在臭氧的解吸前进行预热的待机工序，针对要求即刻开始解吸并供给臭氧(例如专利文献4)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平11-43307号公报(第[0018]段～第[0023]段以及图1)

专利文献2：日本特公昭61-011881号公报(第2页右栏、第3页右栏～第4页右栏以及图3、图5)

专利文献3：日本专利第3837280号公报(第[0017]段以及图1)

专利文献4：日本特公昭63-013928号公报(第2页右栏～第3页左栏以及图2)

发明内容

发明要解决的问题

但是，在专利文献4的公开发明中，因待机工序中的臭氧自分解而存在臭氧利用效率下降的问题。

本发明是为了解决上述的问题而做成的，目的在于提供能够改善针对臭氧要求的浓缩臭氧供给的响应性，提高臭氧利用效率的臭氧供给装置以及臭氧供给方法。

用于解决问题的方案

本发明的臭氧供给装置包括：臭氧产生器，上述臭氧产生器生成臭氧化气体；吸附塔，上述吸附塔使生成的臭氧化气体吸附于内部的吸附剂；待机部，上述待机部使自吸附塔的吸附剂解吸出来的臭氧化气体待机；减压装置，上述减压装置使吸附塔以及待机部的压力下降；臭氧供给部，上述臭氧供给部将解吸出来的臭氧化气体供给到供给对象；低温制冷剂循环器，上述低温制冷剂循环器将吸附剂冷却；以及控制部，上述控制部控制将臭氧产生器、吸附塔、待机部以及减压装置连接起来的气体流路的气流，使生成的臭氧化气体吸附于冷却后的吸附剂，将吸附于吸附剂的臭氧化气体解吸而使臭氧浓缩，控制部使解吸出来的臭氧化气体在待机部进行待机的待机状态时的吸附塔内的压力，低于吸附时的吸附塔内的压力。

本发明的臭氧供给方法使用臭氧供给装置并包括吸附工序、浓缩工序、待机工序和供给工序，上述臭氧供给装置包括臭氧产生器、在内部填充有吸附剂的吸附塔、使臭氧化气体待机的待机部、减压装置、供给臭氧化气体的臭氧供给部和将吸附剂冷却的低温制冷剂循环器，在上述吸附工序中，将在臭氧产生器产生的臭氧化气体导入到吸附塔内，使臭氧化气体吸附于冷却后的吸附剂，在上述浓缩工序中，利用减压装置使吸附塔减压而提高吸附塔内的气体中臭氧纯度，在上述待机工序中，将浓缩后的高纯度臭氧化气体封闭到吸附塔以及待机部的内部，进行待机，在上述供给工序中，供给高纯度臭氧化气体。

发明的效果