[发明专利]真空处理装置

权利要求书

1.一种真空处理装置，所述真空处理装置的特征在于，前述真空处理装置具有：

真空槽，其形成有单一的真空气氛；

处理区域，其设置于前述真空槽内，具有在基板的平面的处理面上进行处理的处理源；

输送路径，其设置于前述真空槽内，以通过前述处理区域的方式输送前述基板；以及

基板保持器输送机构，所述基板保持器输送机构构成为，将基板保持器沿着前述输送路径输送，所述基板保持器在相对于前述基板的输送方向正交的输送正交方向上排列地保持多个基板，

前述输送路径以相对于下述平面投影时为一连串的环状的方式形成，所述平面包括关于在该输送路径中输送的前述基板的处理面上的任意点的法线、以及直线地通过前述处理区域时前述基板的处理面上的任意点所描绘的轨迹线段，

在前述基板保持器输送机构中设置有基板保持器导入部和基板保持器排出部，所述基板保持器导入部用于将保持有处理前的基板的前述基板保持器交付至该基板保持器输送机构，所述基板保持器排出部用于将保持有处理后的基板的前述基板保持器从该基板保持器输送机构取出，

前述基板保持器构成为，在前述输送正交方向的两端部具有沿该输送正交方向延伸的支承轴，并且在前述基板保持器输送机构中，该基板保持器的支承轴以能够以沿前述输送正交方向延伸的旋转轴线为中心旋转的方式拆装自如地保持于保持驱动部，所述保持驱动部设置于构成前述输送路径的驱动部件，

前述保持驱动部设置于前述驱动部件的外侧，并且设置有用于阻止该保持驱动部从前述驱动部件脱落的引导部件，该引导部件被构成使得前述基板保持器在前述基板保持器输送机构的基板保持器导入部处被保持于前述保持驱动部，并且前述基板保持器在前述基板保持器输送机构的基板保持器排出部处从前述保持驱动部脱离。

2.如权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于，

前述基板保持器输送机构在前述输送路径的去路以及回路中分别具有前述处理区域。

3.如权利要求2所述的真空处理装置，其特征在于，

前述基板保持器输送机构具有输送折返部，所述输送折返部将前述基板保持器从前述输送路径的去路向回路折返地输送，该输送折返部构成为在维持前述基板保持器相对于该输送方向的前后关系的状态下输送该基板保持器。

4.如权利要求2所述的真空处理装置，其特征在于，

前述基板保持器输送机构具有输送折返部，所述输送折返部将前述基板保持器从前述输送路径的去路向回路折返地输送，该输送折返部构成为在使前述基板保持器相对于该输送方向的前后关系反转的状态下输送该基板保持器。

5.如权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于，

前述基板保持器输送机构具有加热机构，所述加热机构在处理前对保持有前述基板的前述基板保持器进行加热。

6.如权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于，

前述基板保持器输送机构一体地组装于框架构造体，所述框架构造体相对于前述真空槽拆装自如。

7.如权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于，

前述真空处理装置具有基板搬入搬出室，所述基板搬入搬出室构成为气氛能够相对于前述真空槽连通或者隔离，用于向该真空槽搬入基板并且从该真空槽搬出基板，并且在前述真空槽内具有：

基板搬入搬出机构，其将保持有处理前的基板的基板保持器从前述基板搬入搬出室内搬入该真空槽内，并且将保持有处理后的基板的基板保持器搬入前述基板搬入搬出室；以及

输送机器人，其将保持有前述处理前的基板的基板保持器从前述基板搬入搬出机构交付至前述基板保持器输送机构的基板保持器导入部，并且将保持有前述处理后的基板的基板保持器从前述基板保持器输送机构的基板保持器排出部取出而交付至前述基板搬入搬出机构。