[发明专利]基板处理系统

说明书

本发明提供一种能够抑制基板的污染且布局的自由度较高的基板处理系统。本发明的FOUP搬送部300是由能够调整长度的轨道32及能够自行推进的FOUP保持部30构成。因此，可通过单位轨道320的装卸及基板处理装置20的追加、去除这样的容易的作业而进行基板处理系统1的扩张或缩小(基板处理装置20的追加或去除)。又，FOUP搬送部300将收纳有基板的FOU P80搬送至各基板处理装置20。因此，基板暴露于FOUP80外部的环境气体的时间较短，从而可有效地抑制对基板的污染。

技术领域

本发明关于一种基板处理系统。

背景技术

以往，已知有搬送收纳有多个基板的容纳架，且自该容纳架取出基板进 行处理的基板处理系统。

例如，引用文献1中揭示有如下技术：在装载卸载部收容容纳架，且装 载卸载部使容纳架移动至与基板处理系统邻接的位置，基板处理系统内的搬 送机构自容纳架取出基板，且将自该容纳架取出的基板搬送至基板处理系统 内的各处理装置进行处理。

又，引用文献2中揭示有如下技术：使用自共有搬入端口朝向共有搬出 端口延伸的专用搬送路径搬送容纳架，在该搬送过程中于各处理装置中自容 纳架取出基板进行处理。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2006-237559号公报

专利文献2：日本专利第5392190号公报

发明内容

发明要解决的问题

然而，在专利文献1的技术中，存在如下问题：虽说是基板处理系统 内，但由于以自容纳架取出的状态将基板搬送至各处理装置，故而基板暴露 于容纳架外部的环境气体的时间变长，基板容易被污染。

在引用文献2的技术中，由于容纳架搬送沿着一个方向进行，故而例如 必须按照处理顺序配置各处理装置等，使各处理装置的配置受到限制。又， 在引用文献2的技术中，在追加或去除处理装置的情况下，共有搬入端口和 共有搬出端口的至少一者会移动。因此，在引用文献2的技术中，基于进行 基板处理系统与外部装置之间的容纳架的交接的观点，必须以抵消上述移动 的影响的方式执行外部装置的驱动控制，伴随着基板处理系统的扩大或缩小 (处理装置的追加或去除)的劳力和时间增大。即，在引用文献2的技术 中，基板处理系统中的布局的自由度较低。

因此，本发明中，目的在于提供一种能够抑制基板的污染且布局的自由 度较高的基板处理系统。

用于解决问题的手段

本发明的第1实施方式的基板处理系统是从收纳有基板的容纳架取出基 板并进行处理的基板处理系统，其特征在于，具备：第1交接部，在该基板 处理系统与所述基板处理系统的外部之间交接上述容纳架；基板处理装置 组，多个基板处理装置排列成一列，且在多个所述基板处理装置的排列方向 上，在多个所述基板处理装置的一侧邻接所述第1交接部；以及容纳架搬送 部，沿着所述第1交接部及所述基板处理装置组的所述排列方向在两个方向 搬送所述容纳架。构成所述基板处理装置组的各所述基板处理装置具有：第 2交接部，在基板处理装置与所述容纳架搬送部之间交接所述容纳架；多个 处理部，对所述基板执行处理；以及至少一个基板搬送部，在配置于所述第 2交接部的所述容纳架与所述多个处理部之间搬送所述基板。

本发明的第2实施方式的基板处理系统其特征在于，所述容纳架搬送部 具有：轨道，在从所述第1交接部至所述基板处理装置组中的另一侧的基板 处理装置的区间，沿着所述排列方向延伸；以及容纳架保持部，能够沿着所 述轨道自行推进，且保持所述容纳架。

本发明的第3实施方式的基板处理系统是如第2实施方式的基板处理系 统，其特征在于，所述轨道是将多个单位轨道在所述排列方向上连结而构成 的轨道，通过所述单位轨道的装卸，能够调整所述轨道的所述排列方向上的 长度。