[发明专利]用于镜片覆层的装置、方法和用途

说明书

提出了用于对镜片进行覆层的一种装置、一种方法以及一种用途，待覆层的镜片成对地布置在平行的管状靶材上方，这样它们分别地覆盖靶材的均质沉积区域和不均质沉积区域，并且镜片旋转，所以实现了特别均匀的覆层。

本发明涉及根据权利要求1的前序部分的一种用于对镜片进行覆层(coating，镀层，涂覆)的装置，根据权利要求16的前序部分的一种用于对镜片进行覆层的方法，以及根据权利要求18或20的前序部分的管状靶材用于对镜片进行覆层的用途。

本发明一般涉及通过溅射进行的镜片覆层，而溅射也被称为阴极溅射。在此过程中，原子通过高能离子冲击而与固体(即所谓的靶材)分离，并且进入气相。特别地，本发明涉及所谓的磁控溅射，其中除了所施加的电场之外，在阴极和/或靶材之后还存在磁场。

实际上，即使现有技术公开了许多不同的用于溅射的装置和方法，但仍难以实现待覆层的镜片的均匀覆层。

DE 40 10 495 C2公开了一种用于通过溅射用材料给基板覆层的装置，该基板能够围绕固定轴线旋转，并且保持倾斜于基板表面的两个靶材被分配给基板。在此，无法实现或者至多只能费很大努力才能实现均匀的覆层。

DE 295 05 497 U1公开了一种用于通过溅射对镜片进行覆层的覆层站，镜片以行星式布置在平面溅射源上方移动。在此，构建的努力是相当大的，并且以待覆层的镜片进行的对覆层站的进料是复杂的。此外，无法实现或者只能费很大努力才能实现最佳的均匀覆层。

WO 03/023813 A1公开了一种用于通过脉冲磁控溅射对镜片进行覆层的设备，镜片沿着平行伸长的两个管状靶材的纵向延伸线性地移动，并且在此过程中还旋转。在此，无法实现或者至多只能费很大努力才能实现镜片的均匀覆层。

本发明的目的是提供用于对镜片进行覆层的一种装置、一种方法和一种用途，能够以简单的结构和/或以简单的进料来实现镜片的特别是曲面的非常均匀的覆层。

上述目的通过权利要求1所要求保护的装置、根据权利要求16所要求保护的方法或根据权利要求18或20所要求保护的用途来实现。有利的改进方案是从属权利要求的主题。

根据本发明的一个方面，装置优选地具有细长的或管状的靶材，并且待覆层的镜片可以围绕相对于靶材固定的轴线旋转。特别地，在此过程中，镜片不能线性地移动，但是优选的是固定的布置，靶材和镜片优选地各自围绕固定的轴线旋转。因此，在低构建努力下可以实现尤其均匀的镜片覆层。

根据本发明的另一方面，待覆层的镜片优选地在靶材的移除速率曲线的至少基本上均质的第一区域以及非均质的第二区域中都被保持在靶材上方，并且在此过程中旋转。因此，特别是曲镜片表面的尤其均匀的覆层成为可能。

特别地，待覆层的镜片在端部区域或其附近被保持在优选细长的或管状的靶材上方。因此，可以尤其好地利用刚好朝向靶材的端部增加的输送速率，并因此提高雾化的靶材料的利用可以发生。

根据本发明的另一方面，优选地使用两个细长的和/或管状的，特别是平行的靶材来对镜片的曲面进行覆层，镜片成对地布置在靶材上方，并且优选地围绕一个固定的轴线旋转。这使得简单且紧凑的结构成为可能，可以获得非常均匀的镜片覆层。

根据本发明的另一方面，装置优选地包括一个支架(承载件，carrier)，该支架可与至少两个镜片一起可拆卸。这使得非常简单且快速的装置进料成为可能。

根据本发明的同样可独立实施的另一方面，优选地，具有在其轴向延伸或纵向延伸上变化的外直径的一个靶材被用于对镜片进行覆层。因此，特别地可以影响速率曲线，特别地使其均匀化，和/或可以实现或促进在镜片上特别地非常均匀或者更均匀的覆层，或者镜片上的一些其他覆层特性。

本发明的上述方面以及从进一步的描述中得出的特征和方面可以彼此独立地实施，但也可以以任何组合来实施。

从权利要求书和以下使用附图对一种优选的示例性实施方案的描述中，本发明的其他方面、优点和特征将变得显而易见。