[发明专利]具有半导体初级光源和至少一个发光材料体的照明设备在审

专利信息
申请号: 201680020440.0 申请日: 2016-04-07
公开(公告)号: CN108633300A 公开(公告)日: 2018-10-09
发明(设计)人: 斯特凡·施魏格尔 申请(专利权)人: 欧司朗有限公司
主分类号: F21S41/675 分类号: F21S41/675;F21V14/04;F21V14/00;H01S5/00;F21Y115/30
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;李慧
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 初级光束 发光材料 照明设备 光斑 初级光源 角度位置 半导体 照射 偏转 舞台聚光灯 交通工具 射束属性 投影设备 效果照明 专业照明 迪斯科 前大灯 移动 灯具 入射 发射 占据 应用
【权利要求书】:

1.一种照明设备(1;11;21),具有:

-多个用于发射相应的初级光束(Pij)的半导体初级光源(Dij);

-至少一个能移动的镜(4),借助于所述初级光束能照射所述镜,所述镜能够占据至少两个角度位置;和

-发光材料体(8),借助于由至少一个所述镜(4)偏转的初级光束(Pij)能照射所述发光材料体,

其中,

-各个所述初级光束(Pij)的光斑(Fij)能够在至少一个所述发光材料体(8)上局部地进行区分,

-由各个所述初级光束(Pij)的所述光斑(Fij)组成的总光斑(Fges)能够取决于至少一个能移动的所述镜(4)的所述角度位置地在至少一个所述发光材料体(8)上局部地进行区分,并且

-入射到至少一个所述发光材料体(8)上的至少一个初级光束(Pij)的至少一个射束属性在所述照明设备(1)运行期间是能改变的。

2.根据权利要求1所述的照明设备(1;11;21),其中,射束属性是所述初级光束(Pij)的照射强度。

3.根据权利要求2所述的照明设备(1;11;21),其中,所有各个初级光束(Pij)能利用取决于角度功能的调光因数进行改变。

4.根据前述权利要求中任一项所述的照明设备(1;11;21),其中,射束属性是所述初级光束(Pij)的照射强度分布。

5.根据前述权利要求中任一项所述的照明设备(1;11;21),其中,射束属性是相对于相邻的初级光束(Pij)的布置。

6.根据前述权利要求中任一项所述的照明设备(1;11;21),其中,所述初级光束(Pij)是激光射束。

7.根据前述权利要求中任一项所述的照明设备(1;11;21),其中,至少一个初级光束(Pij)的至少一个射束属性能在至少一个所述镜(4)的角度位置之间改变。

8.根据前述权利要求中任一项所述的照明设备(1;11;21),其中,至少一个能移动的所述镜(4)包括至少一个微型反射镜。

9.根据前述权利要求中任一项所述的照明设备(1;11;21),其中,能轨道式地照射由各个所述初级光束(Pij)组成的总光束(Pges)的至少一个所述发光材料体(8)。

10.根据前述权利要求中任一项所述的照明设备(1;11;21),其中,属于不同的角度位置的总光斑(Fges)彼此局部地分开。

11.根据前述权利要求中任一项所述的照明设备(1;11;21),其中,所述总光斑(Fges)具有平坦的扩展,该扩展不超过所述发光材料体(8)的相应的扩展的20%,不超过特别是10%、特别是5%、特别是2%、特别是1%。

12.根据前述权利要求中任一项所述的照明设备(1;11;21),其中,各个所述初级光束(Pij)的射束属性能利用变化频率进行改变,所述变化频率比扫描频率高至少10倍,特别是至少100倍,特别是至少1000倍,特别是至少10000倍。

13.根据前述权利要求中任一项所述的照明设备(1;11;21),其中,所述照明设备(1;11;21)是投影设备。

14.根据权利要求13所述的照明设备(1;11;21),其中,所述照明设备(1;11;21)是交通工具前大灯或效果照明设备。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于欧司朗有限公司,未经欧司朗有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680020440.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top