[实用新型]缺陷检查用拍摄装置、缺陷检查系统以及膜制造装置有效

专利信息
申请号: 201621361034.4 申请日: 2016-12-12
公开(公告)号: CN206583816U 公开(公告)日: 2017-10-24
发明(设计)人: 尾崎麻耶 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: G01N21/896 分类号: G01N21/896;G01N21/89
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 蒋亭
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 缺陷 检查 拍摄 装置 系统 以及 制造
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及用于检查膜的缺陷的缺陷检查用拍摄装置、缺陷检查 系统以及膜制造装置。

背景技术

已知对偏振膜以及相位差膜等光学膜、电池的隔膜中使用的膜等的缺 陷进行检测的缺陷检查系统。这种缺陷检查系统利用搬运机构搬运膜,利 用光照射机构向膜的拍摄区域照射光,利用拍摄机构拍摄膜的拍摄区域, 并根据所拍摄的图像进行缺陷检查。作为基于这种缺陷检查系统进行的缺 陷检查方法的种类,大体分为透射法和反射法。更详细地说,作为透射法, 有正透射法、正交偏振(crossed nicol)透射法、透射散射法,作为反射法, 有正反射法、正交偏振反射法、反射散射法。在专利文献1中,公开了作 为透射法而使用了正透射法、透射散射法的缺陷检查系统,另外,公开了 作为反射法而使用了正反射法、反射散射法的缺陷检查系统,在专利文献 2中,公开了作为透射法而使用了正交偏振透射法的缺陷检查系统。

例如,正透射法适于检测膜贴合工序中的混入、附着所导致的黑异物, 正交偏振透射法适于检测粘合件涂敷工序中的混入、附着所导致的亮点, 透射散射法适于检测膜搬运工序中的附着异物导致的划痕转印所带来的 变形。另一方面,反射法(正反射法、正交偏振反射法、反射散射法)适 于检测贴合工序中的咬入所导致的气泡。

在先技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2012-167975号公报

专利文献2:日本特开2007-212442号公报

为了检测黑异物、亮点、变形、气泡之类的不同的多个缺陷,考虑使 用不同的多种检查方法(检查系列)。然而,若检查系列数变多,则投入 成本、管理成本变高,因此希望削减检查系列数。

实用新型内容

实用新型要解决的课题

因此,本实用新型的目的在于提供能够整合不同的检查系列而削减检 查系列数的缺陷检查用拍摄装置、缺陷检查系统以及膜制造装置。

用于解决课题的手段

本实用新型的缺陷检查用拍摄装置用于进行具有偏振特性的膜的缺 陷检查,其中,所述缺陷检查用拍摄装置具备:光照射机构,其向膜的拍 摄区域照射光;拍摄机构,其将膜的拍摄区域拍摄为二维图像;第一偏振 滤波器,其以与膜形成正交偏振状态或者第一非正交偏振状态的方式,配 置在光照射机构与膜的拍摄区域之间、或者膜的拍摄区域与拍摄机构之 间;以及搬运机构,其相对于光照射机构、拍摄机构以及第一偏振滤波器 沿搬运方向相对地搬运膜,拍摄区域包括在搬运方向上被分割出的第一拍 摄区域以及第二拍摄区域,第一偏振滤波器配置在光照射机构与第一拍摄 区域之间、或者第一拍摄区域与拍摄机构之间。

另外,本实用新型的缺陷检查用拍摄方法使用具备光照射机构、拍摄 机构、第一偏振滤波器、以及搬运机构的缺陷检查用拍摄装置进行用于检 查具有偏振特性的膜的缺陷的拍摄,其中,所述缺陷检查用拍摄方法包括 如下工序:第一偏振滤波器配置工序,将第一偏振滤波器以与膜形成正交 偏振状态或者第一非正交偏振状态的方式,配置在光照射机构与膜的拍摄 区域之间、或者膜的拍摄区域与拍摄机构之间;搬运工序,利用搬运机构 相对于光照射机构、拍摄机构以及第一偏振滤波器沿搬运方向相对地搬运 膜;光照射工序,利用光照射机构向膜的拍摄区域照射光;以及拍摄工序, 利用拍摄机构将膜的拍摄区域拍摄为二维图像,拍摄区域包括在搬运方向 上被分割出的第一拍摄区域以及第二拍摄区域,在第一偏振滤波器配置工 序中,将第一偏振滤波器配置在光照射机构与第一拍摄区域之间、或者第 一拍摄区域与拍摄机构之间。

在此,正交偏振状态指的是,偏振滤波器的偏振轴(偏振吸收轴)与 膜的偏振轴(偏振吸收轴)实质上正交的状态,即,偏振滤波器的偏振轴(偏振吸收轴)与膜的偏振轴(偏振吸收轴)以实质上90度的角度交叉 的状态。另一方面,非正交偏振(日文:ハ一フクロスニコル)状态指的 是,偏振滤波器的偏振轴(偏振吸收轴)与膜的偏振轴(偏振吸收轴)实 质不上正交而是交叉的状态,即,偏振滤波器的偏振轴(偏振吸收轴)与 膜的偏振轴(偏振吸收轴)以实质上90度以外的角度交叉的状态。

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