[实用新型]一种用于库特勒湿刻蚀1号槽添加水膜装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种用于库特勒湿刻蚀1号槽(1号槽是进料槽，也是库特勒刻蚀机的第一个槽)添加水膜装置，属于湿刻蚀技术领域。

背景技术

干法刻蚀的刻蚀剂是等离子体，是利用等离子体和表面薄膜反应，形成挥发性物质，或直接轰击薄膜表面使之被腐蚀的工艺。

湿法刻蚀主要在较为平整的膜面上刻出绒面，从而增加光程，减少光的反射，刻蚀可用稀释的盐酸等，湿法刻蚀是将刻蚀材料浸泡在腐蚀液内进行腐蚀的技术。

如图1所示，现有湿法刻蚀工艺中会产生的多余刻蚀区域，而且存在因刻蚀槽内气泡炸裂刻蚀药液飞溅、槽体上方凝结的刻蚀药液液滴滴落、排风不稳定、流量异常等问题，造成扩散面被刻蚀药液破坏，使得太阳能电池的各种外观不良片、电性能失效片的产生比例大。

发明内容

本实用新型要解决的技术问题是：提供了一种避免过刻、提高光电转换效率的用于库特勒湿刻蚀1号槽添加水膜装置，解决了现有湿法刻蚀工艺中会产生的多余刻蚀区域，而且存在因刻蚀槽内气泡炸裂刻蚀药液飞溅、槽体上方凝结的刻蚀药液液滴滴落、排风不稳定、流量异常的问题。

为了解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是提供了一种用于库特勒湿刻蚀1号槽添加水膜装置，包括纯水箱，纯水箱与管路的一端连接，管路的另一端设于库特勒湿刻蚀1号槽上，其特征在于，所述的库特勒湿刻蚀1号槽内设有水刀。

优选地，所述的管路上设有手动调节阀和气动阀。

优选地，所述的气动阀设于手动调节阀上方。

优选地，所述的库特勒湿刻蚀1号槽由多个滚轮构成，库特勒湿刻蚀1号槽内设有硅片。

本实用新型中用于库特勒湿刻蚀1号槽上加装一把水刀，用于库特勒湿刻蚀1号槽通过水刀接着机台上的纯水让片子流过1号槽时上表面覆盖一层水膜，即通过水刀的出水孔形成片子表面的水膜，为避免过刻，不仅可以去除现有湿法刻蚀工艺中产生的多余刻蚀区域，增加PN结的有效受光面积，提高光电转换效率，而且可消除因刻蚀槽内气泡炸裂刻蚀药液飞溅、槽体上方凝结的刻蚀药液液滴滴落、排风不稳定、流量异常等问题，造成扩散面被刻蚀药液破坏，最终降低太阳能电池的各种外观不良片、电性能失效片的产生比例。

附图说明

图1为现有的库特勒湿刻蚀1号槽的结构示意图；

图2为库特勒1号槽上设置水刀后的结构示意图；

图3为一种用于库特勒湿刻蚀1号槽添加水膜装置的结构示意图。

具体实施方式

为使本实用新型更明显易懂，兹以优选实施例，并配合附图作详细说明如下。

本实用新型为一种用于库特勒湿刻蚀1号槽添加水膜装置，如图2、图3所示，其包括手动调节阀6和气动阀5，手动调节阀6和气动阀5均固定在与机台上的纯水箱4连接的管路7上，气动阀5设于手动调节阀6上方。纯水箱4与管路7的一端连接，管路7的另一端设于库特勒湿刻蚀1号槽上，库特勒湿刻蚀1号槽内设有水刀3。库特勒湿刻蚀1号槽由多个滚轮1构成，库特勒湿刻蚀1号槽内设有硅片2。

如图3所示，本实用新型在槽体内部装一把水刀3，并在管路7下面安装一个气动阀5并长期打开，使纯水箱4下来的管路7连接气动阀5和手动调节阀6再连接管路7到水刀3。

本实用新型上设置一个手动调节阀6，并在管路7上方安装一个气动阀5，使气动阀5和手动调节阀6接在同一个管路7上。通过气动阀5和手动调节阀6把纯水直接引到水刀3上，这样片子流过库特勒湿刻蚀1号槽时扩散面上会形成一层水膜，提高硅片2方阻均匀性，增加PN结的有效受光面积，防止太阳能电池的各种外观不良片、电性能失效片的产生比例。

虽然本实用新型已以较佳实施例揭示如上，然其并非用以限定本实用新型，任何本领域技术人员，在不脱离本实用新型的精神和范围内，当可作些许的修改和完善，因此本实用新型的保护范围当以权利要求书所界定的为准。