[实用新型]工艺液体输送系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种工艺液体输送系统，特别是涉及一种用于半导体设备的工艺液体输送系统。

背景技术

在半导体设备中通常会使用气动隔膜泵来驱动工艺液体循环。参照图1，其显示一种现有用于半导体设备的工艺液体输送系统10的示意图。所述工艺液体输送系统10包含电磁阀110、气动隔膜泵120、储存槽130、和连接在所述电磁阀110和所述气动隔膜泵120之间的气体输送管路140以及连接在所述气动隔膜泵120和所述储存槽130之间的液体输送管路150。所述电磁阀110通常设置在半导体设备的电控区170，所述电控区170设有多种电控装置(例如电源控制器、计算机等等)和复杂的电路走线。所述电磁阀110会与一气体供应源160连接以导入一工作气体，并通过所述气体输送管路140将所述工作气体传送至所述气动隔膜泵120，以驱动所述气动隔膜泵120的薄膜产生往复式运动，使得所述气动隔膜泵120能驱使工艺液体通过所述液体输送管路150从所述储存槽130抽出。抽出的工艺液体可通过管路循环后回到原来的所述储存槽130，或者是通过管路在不同的槽体之间输送。

参照图2和图3，图2显示图1的所述工艺液体输送系统10的电磁阀110于断电状态下的示意图，以及图3显示图1的所述工艺液体输送系统10的电磁阀110于通电状态下的示意图。所述电磁阀110包含线圈组111、先导阀112、连动杆113、多个装设在所述连动杆113的活塞114、进气口C1、第一排气口C2、第二排气口C3、第一接口C4、和第二接口C5。如图2所示，当所述电磁阀110于断电状态下时，所述气体供应源160会将工作气体G通过所述进气口C1导入所述电磁阀110内，使得所述工作气体G通过所述第二接口C5输送至所述气体输送管路140以进入所述气动隔膜泵120，进而驱动所述气动隔膜泵120的薄膜朝一方向移动。并且，所述气动隔膜泵120内的所述工作气体G会再通过所述气体输送管路140回送至所述电磁阀110的所述第一接口C4，并通过所述第一排气口C2排出。接着，如图3所示，当所述电磁阀110于通电状态下时，通过将所述线圈组111通电可控制所述先导阀112向下移动，以连带地将所述连动杆113及所述多个活塞114一并向下移动，进而改变所述电磁阀110内部的气体通路。因此，所述气体供应源160将工作气体G通过所述进气口C1导入所述电磁阀110内后，所述工作气体G会改通过所述第一接口C4输送至所述气体输送管路140以进入所述气动隔膜泵120，进而驱动所述气动隔膜泵120的薄膜朝一反方向移动。因此，通过控制所述电磁阀110连续地进行通电与断电操作，以驱动所述气动隔膜泵120的薄膜产生往复式运动，进而达到驱使工艺液体通过所述液体输送管路150从所述储存槽130抽出的功效。

然而，当所述气动隔膜泵120的薄膜破裂时，工艺液体会灌入所述气体输送管路140内，并且沿着所述气体输送管路140流入位于所述电控区170的所述电磁阀110内，导致所述电磁阀110与周围的电控装置损坏，并且还会因漏电而产生操作人员发生电击的工安意外。

有鉴于此，有必要提出一种用于半导体设备的工艺液体输送系统，用以解决现有技术中存在的问题。

实用新型内容

为解决上述现有技术的问题，本实用新型的目的在于提供一种用于半导体设备的工艺液体输送系统，通过在电磁阀与泵之间增设一气动阀，以解决因所述电磁阀与泵直接地连接，使得当泵内的工艺液体沿着所述输送管路流入所述电磁阀内时，造成所述电磁阀与周围的电控装置损坏的问题，并且还可防止因漏电而产生操作人员发生电击的工安意外。

为达成上述目的，本实用新型提供一种用于半导体设备的工艺液体输送系统，包含：一电磁阀，与一气体供应源连接以导入一工作气体；一气动阀，与所述电磁阀连接以接收所述工作气体，并且包含至少一接口用于将所述工作气体通过所述至少一接口排出；一储存槽，用于储存一工艺液体；以及一泵，连接在所述气动阀的所述至少一接口与所述储存槽之间，用于接收所述工作气体以驱动所述泵产生将所述工艺液体从所述储存槽抽出的动力。

于本实用新型其中之一优选实施例当中，所述气动阀，包含：一第一接口和一第二接口；以及一作动杆和多个组装在所述作动杆的间隔件，其中通过控制所述作动杆的移动以连带改变所述多个间隔件的位置，进而改变所述气动阀内部的气体输送通道，使得所述工作气体通过所述第一接口或所述第二接口其中之一排出。

于本实用新型其中之一优选实施例当中，所述泵与所述气动阀的所述第一接口和所述第二接口连接以接收所述工作气体。