[实用新型]浇注鞍座密封圈机械手有效
申请号: | 201620026900.8 | 申请日: | 2016-01-13 |
公开(公告)号: | CN205310844U | 公开(公告)日: | 2016-06-15 |
发明(设计)人: | 朱巧敏;王一正;常秋成 | 申请(专利权)人: | 温岭东方红车料有限公司 |
主分类号: | B29C67/00 | 分类号: | B29C67/00;B33Y30/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 317500 *** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 浇注 密封圈 机械手 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种鞍座生产设备,更具体的说,涉及一种浇注鞍座密封圈机械手。
背景技术
鞍座的塑料壳体与包皮之间的固定方式传统通常采用铆钉的结构,影响美观而且手部容易碰伤;现在采用热熔胶的方式粘合,不仅配合牢固,没有缝隙,而且手部触感更好。为了避免热熔胶外溢,通常需要在壳体底部内侧加装一圈密封圈,由于密封圈形状不规则,通常需要人工进行密封圈浇注成型。人工浇注不仅费时费力,而且效率低下,影响生产。
实用新型内容
针对现有技术存在的不足,本实用新型的目的在于提供一种浇注鞍座密封圈机械手,实现自动化生产,操作效率高。
为实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案:一种浇注鞍座密封圈机械手,包括机架,其特征是:机架上设有横向滑轨,横向滑轨上滑移配合有滑移架,滑移架上设有纵向滑轨,纵向滑轨滑移配合有纵梁,纵梁头部固定有安装板,安装板上设有出胶组件,机架侧边设有与出胶组件对应的夹持鞍座的工作台,机架上设有驱动滑移架、纵梁运动的驱动机构。
通过采用上述技术方案,滑移架下方可以设置丝杠带动滑移架在横向滑轨上滑移,在滑移架内也可以设置丝杠结构带动纵梁在纵向滑轨上移动,这样就实现了出胶组件在同一平面内二维的任意移动,从而浇注出各种不规则形状的密封圈;相对传统手工操作,实现了自动化高效生产。
优选的,所述出胶组件包括出胶头、电机、丝杠,电机固定在安装板上并且其输出轴连接丝杠,丝杠带动出胶头上下运动,出胶头设有电磁阀并连接注胶管。
通过采用上述技术方案,电磁阀控制出胶头的开闭,注胶管为出胶头提供原料;这里的丝杠能够实现出胶头上下运动,这样实现了密封圈的三维结构造型,而不仅仅停留在一个平面上浇注,这样成型的密封圈更加匀称,密封性更好。
优选的,所述机架一端设有废气吸收装置,废气吸收装置的吸风口朝向工作台。
通过采用上述技术方案,废气吸收装置能吸走大部分有害气体,保证工作环境健康。
优选的,所述废气吸收装置包括风机,风机的出风口竖直向上并套有塑料通风管道。
通过采用上述技术方案,出风口竖直向上能够让废气顺利通向屋顶,塑料结构的通风管路质量轻,而且不易生锈。
附图说明
图1为本实用新型的结构图;
图2为本实用新型图1中A处的放大图。
附图说明:1、机架;2、横向滑轨;3、纵梁;4、工作台;5、鞍座;6、风机;7、通风管道;8、滑移架;9、纵向滑轨;10、安装板;11、电机;12、注胶管;13、出胶头;14、电磁阀;15、丝杠。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型作进一步说明。
一种浇注鞍座5密封圈机械手,包括机架1,其特征是:机架1上设有横向滑轨2,横向滑轨2上滑移配合有滑移架8,滑移架8上设有纵向滑轨9,纵向滑轨9滑移配合有纵梁3,纵梁3头部固定有安装板10,安装板10上设有出胶组件,机架1侧边设有与出胶组件对应的夹持鞍座5的工作台4,机架1上设有驱动滑移架8、纵梁3运动的驱动机构。其中,滑移架8下方可以设置丝杠带动滑移架8在横向滑轨2上滑移,在滑移架8内也可以设置丝杠结构带动纵梁3在纵向滑轨9上移动,这样就实现了出胶组件在同一平面内二维的任意移动,从而浇注出各种不规则形状的密封圈;相对传统手工操作,实现了自动化高效生产。
如图2所示,出胶组件包括出胶头13、电机11、丝杠,电机11固定在安装板10上并且其输出轴连接丝杠,丝杠带动出胶头13上下运动,出胶头13设有电磁阀14并连接注胶管12。电磁阀14控制出胶头13的开闭,注胶管12为出胶头13提供原料;这里的丝杠能够实现出胶头13上下运动,这样实现了密封圈的三维结构造型,而不仅仅停留在一个平面上浇注,这样成型的密封圈更加匀称,密封性更好。机架1一端设有废气吸收装置,废气吸收装置的吸风口朝向工作台4。废气吸收装置能吸走大部分有害气体,保证工作环境健康。废气吸收装置包括风机6,风机6的出风口竖直向上并套有塑料通风管道7。出风口竖直向上能够让废气顺利通向屋顶,塑料结构的通风管路质量轻,而且不易生锈。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例,凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
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