[发明专利]一种平曲面共用改善液晶显示穿透率的方法

说明书

本发明提供一种平曲面共用改善液晶显示穿透率的方法，其包括以下步骤：(1)基于BPS工艺制程制作出基板，所述基板包括阵列基板和CF基板，其中，阵列基板一侧设置有间隔物和黑矩阵，所述CF基板一侧设置有全膜面的透明导电极；(2)利用激光在基板的指定位置处刻上标记，使CF基板在UV2A曝光机台上与所述标记对位；(3)利用激光在所述透明导电极上刻出追踪线，所述追踪线与阵列基板一侧的栅极线或数据线的遮光区对齐；(4)对基板进行曝光，掩膜版对所述追踪线进行追踪。本发明利用激光图形化的方法，克服了技术偏见而能够使BPS+UV2A兼容使用，并提供理想的穿透率，尤其为曲面液晶显示屏提供了十分理想的技术支持。

技术领域

本发明涉及液晶制造领域，特别涉及一种平曲面共用改善液晶显示穿透率的方法。

背景技术

随着液晶显示技术的发展，出现了曲面屏幕，而出于曲面设计的考虑，通常采用BPS(Black Photo Spacer)设计来省去黑矩阵(Black Matrix，简称BM)制程。这是因为BPS既能起到PS(Photo Spacer，间隙控制)的支撑作用，又能在边框(frame)区遮光，即PS与黑矩阵集成于一道制程。同时，由于BPS设计在阵列(Array)基板，制作在下基板上，即可避免上下基板错位导致的光学特性不良。然而，BPS无法与UV2A技术兼容，原因将于下文进行简要的阐述。

UV2A技术为液晶垂直配向的一种方法，紫外光(UV)通过掩膜版(Mask)，对像素(pixel)中不同区域进行照光，PI发生光化学反应，在液晶滴入后，可对液晶形成一定角度的配向。对比PSVA配向方法，UV2A具有液晶效率优于PSVA、液晶成本较低等优点。

如图1A和图1B所示，在UV2A制程中，需使用掩膜版1，因对像素中不同区域曝光，为保证精确性，曝光平移过程中，掩膜版1需与面板2设计中特定的图形做对位及追踪。在一般的基板中，CF侧有黑矩阵3或RGB色组，掩膜版1可与黑矩阵图形3或RGB图形对位及追踪。

如图2A和图2B所示，当使用BPS技术时，CF侧无PS、黑矩阵，只有一层ITO透明电极，因此，无任何图形供UV2A追踪曝光，故BPS+UV2A技术无法兼容，也就无法兼具BPS和UV2A的优点。

鉴于此，本发明的发明人提供一种能够使BPS+UV2A进行兼容的平曲面共用改善液晶显示穿透率的方法，从而获得更加理想的液晶显示穿透率。

发明内容

本发明的目的是提供一种平曲面共用改善液晶显示穿透率的方法，其能够使BPS+UV2A进行兼容，从而获得更加理想的液晶显示穿透率。

为达上述目的，本发明提供一种平曲面共用改善液晶显示穿透率的方法，其包括以下步骤：

(1)基于BPS工艺制程制作出基板，所述基板包括阵列基板和CF基板，其中，阵列基板一侧设置有间隔物和黑矩阵，所述CF基板一侧设置有全膜面的透明导电极；

(2)利用激光在CF基板的指定位置处刻上标记，使CF基板在UV2A曝光机台上与所述标记对位；

(3)利用激光在所述透明导电极上刻出追踪线，所述追踪线与阵列基板一侧的栅极线或数据线的遮光区对齐；

(4)对基板进行曝光，掩膜版对所述追踪线进行追踪。

所述的平曲面共用改善液晶显示穿透率的方法，其中，在步骤(2)中，所述追踪线为直线。

所述的平曲面共用改善液晶显示穿透率的方法，其中，在步骤(2)中，所述追踪线为分段的线段。

所述的平曲面共用改善液晶显示穿透率的方法，其中，在步骤(3)中，当对CF侧曝光扫描与数据线平行时，则成盒后追踪线刻在对应数据线的区域上；当对CF侧曝光扫描的方向与栅极线平行时，则成盒后追踪线刻在对应栅极线的区域上。