[发明专利]一种多晶硅薄膜的质量检测方法和系统有效
申请号: | 201611256206.6 | 申请日: | 2016-12-30 |
公开(公告)号: | CN106706641B | 公开(公告)日: | 2020-08-04 |
发明(设计)人: | 叶昱均 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G01N21/84 | 分类号: | G01N21/84 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 多晶 薄膜 质量 检测 方法 系统 | ||
本发明提出了一种多晶硅薄膜的质量检测方法,包括:向表面形成有多晶硅薄膜的基板照射光,并进行拍摄,以获得薄膜图像;根据薄膜图像的亮度确定最佳能量密度;按照设定的尺寸将薄膜图像分割成多个图像单元;获取图像单元中多晶硅薄膜的显示参数,获取对比结果,并计算最佳能量密度;根据对比结果获取合格的图像单元的数量;根据合格的图像单元的数量和图像单元的总数量判断多晶硅薄膜是否合格,若不合格,则控制加工设备对多晶硅薄膜进行激光退火处理,若合格,则结束检测。本发明还提供了一种多晶硅薄膜的质量检测系统。本发明可以将检测出的不合格产品最佳能量密度再加工得到合格产品,并同时获得最佳能量密度,增加了产品的合格率。
技术领域
本发明涉及显示器件检测领域,尤其涉及一种多晶硅薄膜的质量检测方法。
背景技术
专利CN201510408380.7公开了一种多晶硅薄膜的质量检测方法和系统,提供了一种通过拍摄图像来判断多晶硅薄膜质量的方案,其流程图如图1所示,其存在的问题时,仅公开了检测的方法和系统,未公开当检测到不合格产品时,如何选择最佳能量密度值来保证在进行再加工的退火处理时,将不合格品加工使其成为合格品。
发明内容
本发明旨在解决现有技术中存在的多晶硅薄膜质量检测方法中若不良品超过一定比例则产品直接报废而造成生产成本浪费的技术问题。
为解决上述技术问题,本发明提出了一种多晶硅薄膜的质量检测方法。
根据本发明的第一个方面,提供了一种多晶硅薄膜的质量检测方法,其包括如下步骤:
向表面上形成有多晶硅薄膜的基板照射光,并对所述多晶硅薄膜进行拍摄,以获得薄膜图像;
根据所述薄膜图像的亮度确定最佳能量密度;
按照设定的尺寸将所述薄膜图像分割成多个图像单元;
获取所述图像单元中所述多晶硅薄膜的显示参数,并将所述显示参数与预设参数进行对比,以获取对比结果;
根据各所述图像单元中所述多晶硅薄膜的显示参数与所述预设参数的对比结果获取合格的所述图像单元的数量;
根据所述薄膜图像的亮度、合格的所述图像单元的数量以及所述图像单元的总数量判断所述多晶硅薄膜是否合格。
优选地,所述根据所述薄膜图像的亮度、合格的所述图像单元的数量以及所述图像单元的总数量判断所述多晶硅薄膜是否合格的步骤还包括:
若不合格,对所述多晶硅薄膜进行激光退火处理;
若合格,则结束检测。
优选地,所述根据所述薄膜图像的亮度确定最佳能量密度的方法为:
预先建立薄膜图像亮度与最佳能量密度的对应关系,通过所述对应关系以及所述薄膜图像亮度确定最佳能量密度。
优选地,将所述显示参数与所述预设参数进行对比以获取对比结果的步骤包括:
若所述线条宽长度分布大于或等于阈值,并且所述亮度大于或等于所述亮度值,则对比结果为合格;否则为不合格。
优选地,所述显示参数至少包括亮度和线条宽长度分布,所述根据各所述图像单元中所述多晶硅薄膜的显示参数与所述预设参数的所述对比结果获取合格的所述图像单元的数量的步骤包括:
根据所述图像单元中所述多晶硅薄膜的显示参数与所述预设参数的对比结果确定所述图像单元是否合格;
统计合格的所述图像的数量。
优选地,所述根据薄膜图像的亮度、合格的所述图像单元的数量和所述图像单元的总数量判断所述多晶硅薄膜是否合格的步骤包括:
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