[发明专利]一种顶发射OLED器件折射钝化层的制备方法及其应用

说明书

本发明提供了一种顶发射OLED器件折射钝化层的制备方法，包括：步骤一、提供阵列基板，在阵列基板上表面涂布一层光学粘结剂，将所述光学粘结剂通过烘烤固化后形成薄膜，剥离所述薄膜得到透镜薄膜；步骤二、在所述透镜薄膜的上表面制备缓冲层；步骤三、在所述缓冲层上表面制备钝化薄膜，剥离所述钝化薄膜即得顶发射OLED器件折射钝化层。本发明提供的顶发射折射钝化层，粘贴在器件的顶部，可改变全反射角同时保护阴极，起到隔绝水氧的作用。

技术领域

本发明属于电子显示领域，涉及一种顶发射OLED器件折射钝化层的制备方法及其应用。

背景技术

在目前的照明和显示领域中，由于有机发光二极管(OLED)具有低启动电压、轻薄、自发光等特点，受到越来越多的关注，被广泛研究用于开发照明产品以及面板行业中，以达到低能耗、轻薄和面光源的目的。

OLED的发光主要通过激子的复合，然后从发光层出射到空气中。一般的底发射OLED照明器件，光出射的路径为：发光层-阳极-基板-空气，光需要经过四个步骤才可以到达空气入射到人的眼睛。顶发射器件的出光效率比底发射高，但是由于阴极一般采用ITO/Ag/ITO结构，其中ITO的折射率比空气高，会发生全反射的现象导致部分光线不能出射到空气中，造成发光效率的损失。

器件一般都会采用光转换的方法提高出光效率，补充色域等。现有技术一般是采用底发射的下转换结构，通过在基板背部制备转换层，使光线出射后通过转换层，补充光能量，提高效率稳定性和色彩的转换，比如偏蓝的色彩，经过转换，可以达到纯蓝的色彩。而在目前顶发射器件中，上转换的结构较少，发光功能单一，且材料本身的光透过率有限，光损失较大。因此，有必要研究一种定发射转换器件，提供顶发射的出光效率，补充色域。

发明内容

为了达到上述目的，本发明一方面提供了一种顶发射OLED器件折射钝化层的制备方法，包括：

步骤一、提供阵列基板，在阵列基板上表面涂布一层光学粘结剂，将所述光学粘结剂通过烘烤固化后形成薄膜结构，剥离所述薄膜结构得到透镜薄膜；

步骤二、在所述透镜薄膜的上表面制备缓冲层；

步骤三、在所述缓冲层上表面制备钝化薄膜，剥离所述钝化薄膜即得顶发射OLED器件折射钝化层。

本发明中，所述阵列基板的上表面为与透镜薄膜的上表面相接触的面，透镜薄膜的上表面形状与阵列基板的上表面形状相对。

根据本发明的优选实施方式，所述钝化薄膜通过聚二甲基硅氧烷类溶液固化得到，所述聚二甲基硅氧烷类溶液中含有纳米颗粒、荧光材料和量子点材料中的一种或多种。具体方法为：配制聚二甲基硅氧烷溶液，在聚二甲基硅氧烷溶液中添加需要的纳米颗粒、荧光材料或量子点材料中的一种或多种，充分混合均匀，然后将上述聚二甲基硅氧烷溶液涂布(旋涂或喷涂)在缓冲层上，进行烘烤固化。烘烤固化条件为本领域常用的烘烤固化条件。

根据本发明的优选实施方式，所述聚二甲基硅氧烷类溶液包括聚二甲基硅氧烷及其同系物溶液。

根据本发明的优选实施方式，所述量子点材料的质量分数为10％-40％；所述荧光材料的质量分数为10％-30％；所述纳米颗粒的质量分数为1％-10％。

根据本发明的优选实施方式，所述量子点材料选自硫化镉、硒化镉和碲化镉中的一种或多种；所述纳米颗粒选自氧化锌、二氧化钛和氧化镁中的一种或多种。所述荧光材料选自本领域常用的荧光发光材料，优选为Alq3。

根据本发明的优选实施方式，所述光学粘结剂选自有机树脂类粘结剂；所述缓冲层材料选自改性或未改性、掺杂或未掺杂的PEDOT:PSS。

根据本发明的优选实施方式，所述步骤二中，缓冲层的厚度为1-10nm。