[发明专利]阵列基板及具有该阵列基板的显示面板有效

专利信息
申请号: 201611230200.1 申请日: 2016-12-27
公开(公告)号: CN106918967B 公开(公告)日: 2020-12-22
发明(设计)人: 张普民 申请(专利权)人: 乐金显示有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/1339
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 蔡胜有;董文国
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 阵列 具有 显示 面板
【说明书】:

本公开涉及阵列基板及具有该阵列基板的显示面板。公开了一种显示面板,其中滤色器基板和阵列基板之间的空间填充有液晶。滤色器基板和阵列基板之间的盒间隙通过柱状间隔物和填充接触孔的填充图案保持。因此,可以抑制柱状间隔物的移动对取向膜的损伤,即使显示面板因外力而变形亦如此。此外,接触孔填充有填充图案,从而抑制克服液晶量不足或过多的问题。

技术领域

本公开涉及显示装置,更具体地,涉及一种阵列基板及具有该阵列基板的显示面板。尽管本公开适用于宽范围的应用,但是其特别适合于抑制由显示面板的阵列基板中的漏光、不足的液晶、冲击等导致的缺陷。

背景技术

显示装置主要包括显示面板,显示面板包括阵列基板、滤色器基板、以及插入在阵列基板和滤色器基板之间的液晶层。当在显示面板上施加电场时,液晶层中的液晶分子的取向改变,使得实现透射率的差异。

由于这种透射率差异,当光穿过滤色器时,颜色的组合反映在从设置在显示面板的后侧的背光产生的光上,从而呈现彩色图像。

制造这种显示装置的工艺包括制造阵列基板和滤色器基板的基板制造工艺、完成显示面板的盒工艺以及组装显示面板和背光的模块工艺。

在基板制造工艺期间,重复一系列工艺步骤如薄膜沉积、光刻和蚀刻,从而在基板上实现阵列层和滤色器层。随后,在盒工艺期间,在阵列基板或滤色器基板上形成密封图案用于将基板彼此附接,然后将阵列基板和滤色器基板附接在一起,液晶层填充在其中,从而完成显示面板。此后,在模块工艺期间将偏振板、驱动电路等附接到显示面板,然后将显示面板与背光组装,从而实现显示装置。

另外,在阵列基板和滤色器基板之间插入间隔物,以保持它们之间的间隙。

根据形成间隔物的形状和工艺,间隔物可以包括球形间隔物和柱状间隔物。球形间隔物通过在阵列基板或滤色器基板上喷涂形成。柱状间隔物通过在阵列基板或滤色器基板上图案化形成。由于柱状间隔物可以以期望的形状形成在期望的位置,因此是更优选的。柱状间隔物通常形成在滤色器基板上,其比阵列基板经历少的工艺数量。

在下文中,将参考附图详细描述面内切换模式显示面板。

图1是面内切换模式显示面板的截面图。图2是图1所示的滤色器基板的平面图。

参考图1和图2,面内切换模式显示面板1包括:阵列基板10;面对阵列基板10并彼此附接的滤色器基板50;以及液晶层LC,其设置在阵列基板10和滤色器基板50之间以填充它们之间的空间。在阵列基板10和滤色器基板50中的每一个上限定有多个像素区域P。

阵列基板10包括在下基板11的第一方向上延伸的多条栅极线(未示出);与多条栅极线平行并与其间隔地延伸的多条公共线(未示出);在与第一方向交叉的第二方向上延伸的多条数据线(未示出);以及多个薄膜晶体管T,每个薄膜晶体管T设置在栅极线和数据线之间的各个交叉处。

薄膜晶体管T包括:栅电极20;覆盖栅电极20的栅极绝缘膜25;半导体层22,其设置在栅极绝缘膜25上并与栅电极20交叠;源电极24和漏电极26,其设置在半导体层22上并彼此间隔开。形成有经由其使漏电极26的一部分露出的接触孔37。像素电极40经由接触孔37连接到漏电极26。

另外,阵列基板10包括:保护层35,其覆盖多条数据线、源电极24和漏电极26;以及下取向膜15,其覆盖像素电极40和公共电极45。像素电极40和公共电极45由透明材料形成,以增加开口率。

滤色器基板50包括:上基板51;黑矩阵60,其与多条栅极线、多个公共电极、多条数据线和多个薄膜晶体管T对应;红色滤色器70a、绿色滤色器70b和蓝色滤色器70c,其分别设置在上基板51和黑矩阵60上的多个像素区域中;以及上取向膜65,其覆盖红色滤色器70a、绿色滤色器70b和蓝色滤色器70c。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于乐金显示有限公司,未经乐金显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201611230200.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top