[发明专利]基板清洗设备

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种基板清洗设备。

背景技术

在显示技术领域，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)与有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平板显示器已经逐步取代阴极射线管(Cathode Ray Tube，CRT)显示器，广泛的应用于液晶电视、手机、个人数字助理、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。

显示面板是LCD、OLED的重要组成部分。不论是LCD的显示面板，还是OLED的显示面板，通常都具有一薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)阵列基板。以LCD的显示面板为例，其主要是由一TFT阵列基板、一彩色滤光片(Color Filter，CF)基板、以及配置于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer)所构成，其工作原理是通过在TFT阵列基板与CF基板上施加驱动电压来控制液晶层中液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。

在TFT阵列基板的制作过程中，基板都需要经过涂布光刻胶、曝光、显影这样一个光刻工序。显影的目的是去除在曝光过程中发生了光学反应的光刻胶，从而在基板上形成与曝光掩模板对应的光刻胶图形，显影后基板上覆盖有光刻胶的位置，在下一个工序刻蚀的过程中由于光刻胶的保护，相应位置的金属或非金属膜不会受到损害，从而最后达到在基板上形成TFT电路的目的。显影后还需要对玻璃基板上被显影的光刻胶和残留的显影液进行清洗，如果清洗不彻底，基板上会残留药液以及光刻胶颗粒，最终会引起基板不良。

目前的基板显影后的清洗过程参照图1所示，图中A为基板显影区，H表示显影后基板走向，基板显影区紧挨着显影后基板清洗区，显影后基板清洗区通常包括三级清洗单元，对显影后的基板进行三个阶段的清洗，三级清洗单元具体设置为依次邻接的初级清洗区B、中级清洗区C和终极清洗(Final-Rinse，FR)区D，初级清洗区B上设置有初级清洗设备100，由初级清洗设备100对显影后基板进行一级清洗；中级清洗区C上设置有中级清洗设备200，由中级清洗设备200对一级清洗后基板进行中级清洗；终极清洗区D上设置有终极清洗设备300，由终极清洗设备300供纯水以对中级清洗后基板进行终极清洗。

显影后基板清洗的目的是除去其上的光刻胶和显影液，初级清洗去除了基板上大部分的光刻胶和显影液，中级清洗去除了剩余的一部分，最后通过终极清洗将光刻胶和显影液完全清除，终极清洗为了保证基板的清洁度，必须使用纯水，初级清洗和中级清洗对清洗用水的要求不局限于纯水，所以为了节约用水，通常会在中级清洗区C和终极清洗区D之间设置一集水池，与终极清洗设备相连通，收集终极清洗区D排出的含有极少光刻胶和显影液的废水，该废水作为循环水，通过水泵(pump)将该循环水供给与第一集水池相连通的初级清洗设备100和/或中级清洗设备200以对基板进行清洗。

如图2所示，现有的终极清洗设备包括机架310、固定于机架上310的护罩320、位于护罩320内的数道并列设置的传送辊330、及设于护罩320内并分布于所述数道传送辊(Roller)330上下两侧的数道喷水管340；如图3所示，在清洗过程中，基板400放置于传送辊330上，使得基板400的背面与传送辊330接触，利用基板400本身的重力使基板400与传送辊330产生摩擦力，并在传送辊330转动时推动基板400往固定方向行进，同时，喷水管340上设于数个喷嘴341，这些喷嘴341向基板400的表面喷射纯水，用以清洗玻璃基板400。然而在基板显影后的实际清洗过程中，经历过终极清洗后的基板400，其上仍会存在光刻胶残留，在基板400表面形成滚痕(Roller Mark)，造成清洗不良的情况产生。

发明内容

本发明的目的在于提供一种基板清洗设备，能够提高清洗效果，避免清洗后的基板上留有脏污及滚痕。

为实现上述目的，本发明提供一种基板清洗设备，包括机架、位于所述机架上方的护罩、传送机构、及喷淋机构；所述护罩用于提供基板清洗空间，所述传送机构用于承载并运送基板，所述喷淋机构用于向基板喷淋清洗液；

所述传送机构包括并列设置的数个导辊，且所述数个导辊中至少有一个为海绵刷导辊，其他的为传送导辊；

每一海绵刷导辊的上方相对设有一个第一压制辊。

所述数个导辊中，所有海绵刷导辊之间的传送导辊、及两侧的部分传送导辊构成一海绵刷传送区，所述海绵刷传送区内每一传送导辊的上方相对设有一个第二压制辊。