[发明专利]一种实时材质编辑方法与系统在审
申请号: | 201611177214.1 | 申请日: | 2016-12-19 |
公开(公告)号: | CN106846420A | 公开(公告)日: | 2017-06-13 |
发明(设计)人: | 崔树林;杨林;武韬 | 申请(专利权)人: | 珠海金山网络游戏科技有限公司;广州西山居世游网络科技有限公司 |
主分类号: | G06T7/90 | 分类号: | G06T7/90;G06T15/80 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司44205 | 代理人: | 谭志强 |
地址: | 519000 广东省珠*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 实时 材质 编辑 方法 系统 | ||
技术领域
本发明涉及一种实时材质编辑方法与系统,属于计算机图像处理领域。
背景技术
基于材质图像信息生成材质贴图,在数字重建、游戏制作、影视动画等领域广泛应用。基于单幅图像的材质贴图生成方法具有图像获取方便、操作简单等优点,常见软件包括CrazyBump、Allegorithmic Substance等。此类软件通常采用一键式贴图生成方法,即系统根据用户输入的单张图像自动生成一套材质贴图。但为了获得满足用户需求的高质量材质渲染效果,需要用户根据经验逐一修改每张材质贴图,一般需要几个小时或更长时间。
发明内容
本发明提出了一种实时材质编辑方法与系统,用户仅需交互调节系统提供的三个参数:镜面反射系数、法向系数、高光系数,便可生成高质量的材质贴图。
本发明的技术方案包括一种实时材质编辑方法,其特征在于,该方法包括:S1,输入的原始图,该原始图为单幅样本材质图像;S2,对原始图的漫反射系数图、镜面放射系数图、法向图、高光图进行初始化计算和生成;S3,根据用户输入的参数,生成材质贴图,其中所输入的参数包括镜面反射系数、法向系数、高光系数。
根据所述的实时材质编辑方法,所述步骤S2还包括:S201,基于YUV颜色空间明亮度对单幅样本材质图像进行高光分离,读取镜面反射系数,计算生成得到原始明暗图、原始颜色图镜面反射图;S202,使用标准差将原始图像空间明亮度处理为标准正态分布,读取法向系数,计算并生成法向图;S203,基于YUV颜色空间明亮度,读取高光系数,计算并生成高光图;S204,计算镜面反射系数图在像素点对应的值,进一步计算并生成镜面反射系数;S205,计算漫反射系数图在像素点对应的值,进一步计算并生成漫反射系数。
根据所述的实时材质编辑方法,所述步骤S3还包括:所输出材质贴图包括漫反射系数图、镜面反射系数图、法向图、高光图。
根据所述的实时材质编辑方法,所述步骤S3还包括:对输入参数进行识别,若识别到输入的参数为输入镜面反射系数,则依次执行所述步骤S201、S202、S203、S204、S205、S3;若识别到输入的参数为法向系数,则依次执行所述步骤S202、S204、S205、S3;若识别到输入的参数为高光系数,则依次执行所述步骤S203、S204、S3。
根据所述的实时材质编辑方法,所述步骤S201还包括:1)计算输入图像的原始明暗图Y,以及,原始颜色图U、V;2)读取镜面反射系数ρ,其中1<ρ<Ymin,Ymin为输入图像的原始明暗图Y的最小值;3)设置所有像素的明暗值为常数ρ,并根据ρCYUV[1 U V]T计算镜面反射图,其中CYUV为YUV颜色空间向RGB颜色空间的转换函数;4)通过原始RGB图像计算得到镜面反射图,进一步计算漫反射图。
根据所述的实时材质编辑方法,所述步骤S202还包括:1)读取在所述步骤S201计算得到的图像原始明暗图Y’;2)将图像原始明暗图Y进行处理得到新的标准化明暗图Y’,其中,像素点i(1,...,N)的明暗值处理方法为其中,xi为像素点原始明暗值,xmean为图像所有像素平均明暗值,xσ为图像明暗值标准差,3)读取法向系数,其中法向系数取值范围为0-255;4)对明暗图Y’进行缩放处理,处理时的计算方式为Y’*法向系数/255.0,并根据明暗图Y’每个像素值及其周边像素的差值,得到法向图。
根据所述的实时材质编辑方法,所述步骤S203还包括:1)计算镜面反射图的明暗图YS;2)将镜面反射图的明暗图YS进行处理得到新的标准化明暗图YS’;3)读取高光系数,其中高光系数取值范围为0-255;4)对明暗图YS’进行缩放处理,处理时的计算方式为YS’*高光系数/255.0,并将缩放处理后的明暗图YS’作为高光图。
根据所述的实时材质编辑方法,所述步骤S204还包括:使用ρs(x)=Is(x)/pow(Dot(N(x),H),g(x))/Dot(N(x),L)计算镜面反射系数图在像素点x的值,其中Is(x)为镜面反射图在像素点x的值,其中,Dot(N(x),H)为法向量N(x)与H向量的内积,g(x)为高光图在像素点x的值,Dot(N(x),L)为法向量N(x)与光线方向向量L的内积。
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