[发明专利]一种电镀污泥脱硅钙装置

权利要求书

1.一种电镀污泥脱硅钙装置，其特征在于，包括：

分别用于存储高分子絮凝剂、含硅酸溶电镀污泥、含钙酸溶电镀污泥的第一、第二、第三存储容器，所述第一、第二、第三存储容器分别具有一出料口；

一絮凝反应池，所述絮凝反应池具有一进料口和一排料口，所述絮凝反应池的进料口分别与所述第一、第二、第三存储容器的出料口连接；

一设置在所述絮凝反应池内的搅拌机构；

一固液分离机，所述固液分离机具有一进料口、一出渣口和一出液口，所述固液分离机的进料口与所述絮凝反应池的排料口连接；

一用于收集硅钙渣的硅钙渣收集容器，所述硅钙渣收集容器具有一进料口和一排料口，所述硅钙渣收集容器的进料口与所述固液分离机的出渣口连接；以及

一用于收集脱硅钙电镀液的脱硅钙电镀液收集容器，所述脱硅钙电镀液收集容器具有一进液口和一排液口，所述脱硅钙电镀液收集容器的进液口与所述固液分离机的出液口连接。

2.如权利要求1所述的电镀污泥脱硅钙装置，其特征在于，所述第一、第二、第三存储容器的出料口与所述絮凝反应池的进料口之间分别安装有第一、第二、第三截止阀，所述絮凝反应池的排料口与所述固液分离机的进料口之间安装有第四截止阀，所述固液分离机的出液口与所述脱硅钙电镀液收集容器的进液口之间安装有第五截止阀。

3.如权利要求2所述的电镀污泥脱硅钙装置，其特征在于，所述絮凝反应池的进料口处安装有一第一开关阀，所述絮凝反应池的排料口处安装有一第二开关阀，所述硅钙渣收集容器的进料口处安装有一第三开关阀，所述硅钙渣收集容器的排料口处安装有一第四开关阀，所述脱硅钙电镀液收集容器的进液口处安装有一第五开关阀，所述脱硅钙电镀液收集容器的排液口处安装有一第六开关阀。

4.如权利要求1至3中任一项所述的电镀污泥脱硅钙装置，其特征在于，所述搅拌机构包括搅拌变速电机、搅拌轴、若干搅拌叶片以及搅拌变频器，所述搅拌轴的一端与所述搅拌变速电机的输出变速端连接，其另一端伸入所述絮凝反应池内，所述若干搅拌叶片沿轴向间隔设置在所述搅拌轴伸入所述絮凝反应池内的部分上，所述搅拌变频器与所述搅拌变速电机连接，用于控制所述搅拌变速电机的转动速率。

5.如权利要求1所述的电镀污泥脱硅钙装置，其特征在于，所述固液分离机为卧式螺旋离心机或者板框压滤机。