[发明专利]辉光放电质谱设备用陶瓷片的清洗方法

说明书

本发明提供一种辉光放电质谱设备用陶瓷片的清洗方法，包括：提供辉光放电质谱设备用陶瓷片；对陶瓷片进行第一清洗工艺；第一清洗工艺后对陶瓷片进行第二清洗工艺，第二清洗工艺包括超声波清洗工艺；第二清洗工艺后在预设温度下对陶瓷片进行干燥工艺。第一清洗工艺主要用于去除陶瓷片表面的金属杂质，由于陶瓷片本身具有较多微孔，微孔内容易吸附杂质(例如第一清洗工艺后的金属溶解物)，因此通过超声波清洗工艺，可以有效去除第一清洗工艺后微孔内的残留杂质，且在预设温度下进行干燥工艺时，还可以使微孔内剩余低熔点的残留杂质蒸发，从而提高对陶瓷片的杂质去除效果，减少陶瓷片杂质残余，进而提高辉光放电质谱的检测准确性和检测效率。

技术领域

本发明涉及元素分析领域，尤其涉及一种辉光放电质谱设备用陶瓷片的清洗方法。

背景技术

辉光放电质谱(Glow Discharge Mass Spectrometry，GDMS)是目前高纯固体导电材料纯度分析和杂质成分分析最有效的方法。辉光放电质谱是利用辉光放电源作为离子源与质谱仪器联接进行质谱分析的一种分析方法，具有灵敏度高、检出限低、可同时分析70种以上杂质元素等优点。由于辉光放电质谱可以直接固体进样，因此越来越被广泛应用于高纯金属、合金等材料的分析。

辉光放电质谱由辉光放电离子源(GD源)和质谱分析器两部分组成。辉光放电离子源利用惰性气体(一般是氩气，压强约10Pa至100Pa)在上千伏特电压下电离产生的离子撞击样品表面使之发生溅射，溅射产生的样品原子扩散至等离子体中进一步离子化，进而被质谱分析器收集检测。

但是，现有技术辉光放电质谱的检测准确性和检测效率较低。

发明内容

本发明解决的问题是提供一种辉光放电质谱设备用陶瓷片的清洗方法，提高辉光放电质谱的检测准确性和检测效率。

为解决上述问题，本发明提供一种辉光放电质谱设备用陶瓷片的清洗方法，包括：提供辉光放电质谱设备用陶瓷片；对所述陶瓷片进行第一清洗工艺；第一清洗工艺后，对所述陶瓷片进行第二清洗工艺，所述第二清洗工艺包括超声波清洗工艺；第二清洗工艺后，在预设温度下对所述陶瓷片进行干燥工艺。

可选的，所述第一清洗工艺为酸洗工艺。

可选的，对所述陶瓷片进行第一清洗工艺的步骤中，采用的酸洗溶液为氢氟酸、硝酸和水的混合溶液。

可选的，所述酸洗工艺的工艺时间为1分钟至3分钟。

可选的，对所述陶瓷片进行第二清洗工艺的步骤包括：采用蒸馏水对所述陶瓷片进行预清洗工艺；预清洗工艺后，在蒸馏水中对所述陶瓷片进行超声波清洗工艺。

可选的，所述预清洗工艺包括至少3次浸取操作；所述浸取操作的步骤包括：将所述陶瓷片浸入蒸馏水中；将所述陶瓷片从所述蒸馏水中取出。

可选的，所述预清洗工艺包括3次至5次的浸取操作。

可选的，在蒸馏水中对所述陶瓷片进行超声波清洗工艺的步骤包括至少3次蒸馏水超声清洗；所述蒸馏水超声清洗的步骤包括：采用超声波振荡器进行所述蒸馏水超声清洗，所述超声波振荡器的功率为150W至500W，输出频率为20KHz至40KHz，清洗时间为1分钟至3分钟。

可选的，在蒸馏水中对所述陶瓷片进行超声波清洗工艺的步骤包括3次至5次的蒸馏水超声清洗。

可选的，对所述陶瓷片进行第二清洗工艺的步骤为：在蒸馏水中对所述陶瓷片进行超声波清洗工艺。

可选的，在蒸馏水中对所述陶瓷片进行超声波清洗工艺的步骤包括至少5次蒸馏水超声清洗；所述蒸馏水超声清洗的步骤包括：采用超声波振荡器进行所述蒸馏水超声清洗，所述超声波振荡器的功率为150W至500W，输出频率为20KHz至40KHz，清洗时间为1分钟至3分钟。