[发明专利]辉光放电质谱设备用陶瓷片的清洗方法

权利要求书

1.一种辉光放电质谱设备用陶瓷片的清洗方法，其特征在于，包括：

提供辉光放电质谱设备用陶瓷片；

对所述陶瓷片进行第一清洗工艺；

第一清洗工艺后，对所述陶瓷片进行第二清洗工艺，所述第二清洗工艺包括超声波清洗工艺；

第二清洗工艺后，在预设温度下对所述陶瓷片进行干燥工艺。

2.如权利要求1所述的辉光放电质谱设备用陶瓷片的清洗方法，其特征在于，所述第一清洗工艺为酸洗工艺。

3.如权利要求2所述的辉光放电质谱设备用陶瓷片的清洗方法，其特征在于，对所述陶瓷片进行第一清洗工艺的步骤中，采用的酸洗溶液为氢氟酸、硝酸和水的混合溶液。

4.如权利要求2所述的辉光放电质谱设备用陶瓷片的清洗方法，其特征在于，所述酸洗工艺的工艺时间为1分钟至3分钟。

5.如权利要求1所述的辉光放电质谱设备用陶瓷片的清洗方法，其特征在于，对所述陶瓷片进行第二清洗工艺的步骤包括：采用蒸馏水对所述陶瓷片进行预清洗工艺；预清洗工艺后，在蒸馏水中对所述陶瓷片进行超声波清洗工艺。

6.如权利要求5所述的辉光放电质谱设备用陶瓷片的清洗方法，其特征在于，所述预清洗工艺包括至少3次浸取操作；

所述浸取操作的步骤包括：将所述陶瓷片浸入蒸馏水中；将所述陶瓷片从所述蒸馏水中取出。

7.如权利要求6所述的辉光放电质谱设备用陶瓷片的清洗方法，其特征在于，所述预清洗工艺包括3次至5次的浸取操作。

8.如权利要求5所述的辉光放电质谱设备用陶瓷片的清洗方法，其特征在于，在蒸馏水中对所述陶瓷片进行超声波清洗工艺的步骤包括至少3次蒸馏水超声清洗；

所述蒸馏水超声清洗的步骤包括：采用超声波振荡器进行所述蒸馏水超声清洗，所述超声波振荡器的功率为150W至500W，输出频率为20KHz至40KHz，清洗时间为1分钟至3分钟。

9.如权利要求8所述的辉光放电质谱设备用陶瓷片的清洗方法，其特征在于，在蒸馏水中对所述陶瓷片进行超声波清洗工艺的步骤包括3次至5次的蒸馏水超声清洗。

10.如权利要求1所述的辉光放电质谱设备用陶瓷片的清洗方法，其特征在于，对所述陶瓷片进行第二清洗工艺的步骤为：在蒸馏水中对所述陶瓷片进行超声波清洗工艺。

11.如权利要求10所述的辉光放电质谱设备用陶瓷片的清洗方法，其特征在于，在蒸馏水中对所述陶瓷片进行超声波清洗工艺的步骤包括至少5次蒸馏水超声清洗；

所述蒸馏水超声清洗的步骤包括：采用超声波振荡器进行所述蒸馏水超声清洗，所述超声波振荡器的功率为150W至500W，输出频率为20KHz至40KHz，清洗时间为1分钟至3分钟。

12.如权利要求11所述的辉光放电质谱设备用陶瓷片的清洗方法，其特征在于，在蒸馏水中对所述陶瓷片进行超声波清洗工艺的步骤包括5次至10次的蒸馏水超声清洗。

13.如权利要求1所述的辉光放电质谱设备用陶瓷片的清洗方法，其特征在于，在预设温度下对所述陶瓷片进行干燥工艺的步骤包括：在常压下对所述陶瓷片进行烘干，预设温度为150摄氏度至250摄氏度，干燥时间为30分钟至90分钟。

14.如权利要求1所述的辉光放电质谱设备用陶瓷片的清洗方法，其特征在于，在预设温度下对所述陶瓷片进行干燥工艺的步骤包括：对所述陶瓷片进行真空干燥，预设温度为150摄氏度至250摄氏度，干燥时间为30分钟至90分钟。