[发明专利]光电转换装置及信息处理装置有效
| 申请号: | 201611143924.2 | 申请日: | 2016-12-13 |
| 公开(公告)号: | CN106887441B | 公开(公告)日: | 2020-11-06 |
| 发明(设计)人: | 和田洋一;池田一;郷田达人;太田径介;长谷川利则;小林昌弘 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
| 主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
| 代理公司: | 北京怡丰知识产权代理有限公司 11293 | 代理人: | 迟军 |
| 地址: | 日本东京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光电 转换 装置 信息处理 | ||
1.一种半导体装置,其包括:
第一光电二极管,其被布置在半导体基板中;
第二光电二极管,其被布置在半导体基板中;
电荷电压转换部,其连接到第一光电二极管的阴极和第二光电二极管的阳极,电荷电压转换部被构造为将与在第一光电二极管中生成的电子和在第二光电二极管中生成的空穴对应的电荷量转换为与电荷电压转换部的静电电容对应的电压;以及
信号生成部,其被构造为生成与电荷电压转换部的电压对应的信号,信号生成部包括晶体管,所述晶体管的栅极连接至电荷电压转换部,
其中,在所述晶体管与布置有第一光电二极管的有源区域之间以及在所述晶体管与布置有第二光电二极管的有源区域之间,布置由绝缘体构成的元件分离部。
2.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,第一光电二极管和第二光电二极管被布置在同一有源区域中。
3.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,第一光电二极管和第二光电二极管通过PN结彼此电分离。
4.根据权利要求1所述的半导体装置,
其中,电荷电压转换部包括:
对应于N型半导体区域的第一浮置扩散区,以及
对应于P型半导体区域的第二浮置扩散区,
半导体装置还包括:
第一传输部,其被构造为将第一光电二极管的电子传输到第一浮置扩散区;以及
第二传输部,其被构造为将第二光电二极管的空穴传输到第二浮置扩散区。
5.根据权利要求4所述的半导体装置,
其中,在将与半导体基板的顶面平行的一个方向设置为第一方向,并且将与半导体基板的顶面平行且还与第一方向相交的方向设置为第二方向的情况下,
在关于半导体基板的顶面的平面图中,
第一光电二极管和第二光电二极管在第一方向上排齐,并且
其中,构成信号生成部的晶体管在第二方向上与第一光电二极管和第二光电二极管中的至少一个排齐。
6.根据权利要求5所述的半导体装置,
其中,第一光电二极管和第一浮置扩散区在第二方向上排齐,并且
其中,第二光电二极管和第二浮置扩散区在第二方向上排齐。
7.根据权利要求1所述的半导体装置,
其中,元件分离部在第一光电二极管与第二光电二极管之间延伸,以使第一光电二极管和第二光电二极管彼此电分离,
其中,元件分离部的延伸部分包括:
在第一光电二极管侧上的第一侧面,
在第二光电二极管侧上的第二侧面,以及
底面,其将第一侧面连接到第二侧面,并且包括在第一光电二极管侧上的第一部分和在第二光电二极管侧上的第二部分,
其中,半导体基板包括形成在第一侧面与第一光电二极管之间的P型第一杂质区域、形成在第二侧面与第二光电二极管之间的N型第二杂质区域、形成在底面的第一部分与第一光电二极管之间的P型第三杂质区域、以及形成在底面的第二部分与第二光电二极管之间的N型第四杂质区域,并且
其中,P型第三杂质区域与N型第四杂质区域之间的杂质浓度差小于P型第一杂质区域与N型第二杂质区域之间的杂质浓度差。
8.根据权利要求7所述的半导体装置,
其中,P型第三杂质区域的杂质浓度低于P型第一杂质区域的杂质浓度,并且N型第四杂质区域的杂质浓度低于N型第二杂质区域的杂质浓度。
9.根据权利要求4所述的半导体装置,其中,元件分离部在第一浮置扩散区与第二浮置扩散区之间延伸。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





