[发明专利]提升二氧化钒光吸收增强的方毯周期结构

权利要求书

1.一种提升二氧化钒光吸收增强的方毯周期结构，其特征在于：由衬底和吸收层自下至上组成，吸收层由三种不同边长的正方形纳米柱组成。

2.根据权利要求1所述的提升二氧化钒光吸收增强的方毯周期结构，其特征在于：所述衬底为VO₂，厚度为100nm，尺寸为3um*3um。

3.根据权利要求1所述的提升二氧化钒光吸收增强的方毯周期结构，其特征在于：所述吸收层为VO₂，纳米柱的边长分别为1um、1/3um、1/9um，纳米柱的高度均为300nm。

4.根据权利要求1、2或3所述的提升二氧化钒光吸收增强的方毯周期结构，其特征在于：所述3um*3um的衬底等分为9个正方形，边长为1um的纳米柱位于衬底正中央；1um的纳米柱周围的8个正方形均等分为9个第一正方形，边长为1/3um的纳米柱位于这8个正方形的正中央；1/3um的纳米柱周围的64个第一正方形均等分为9个第二正方形，边长为1/9um的纳米柱位于这64个第一正方形的正中央；边长为1um的纳米柱个数为1，边长为1/3um的纳米柱个数为8，边长为1/9um的纳米柱个数为64。