[发明专利]高效率制备氮掺杂石墨烯碳纳米管薄膜的方法有效

专利信息
申请号: 201611097195.1 申请日: 2017-01-16
公开(公告)号: CN106783217B 公开(公告)日: 2018-07-13
发明(设计)人: 侯峰;郭文磊;蒋小通 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: H01G11/36 分类号: H01G11/36;C01B32/184;C01B32/16
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 张宏祥
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 碳纳米管薄膜 高效率 氮掺杂石墨烯 石墨烯 炉膛 前驱体溶液 乙醇溶液 质量比 制备 氧化石墨烯 质量百分比 超声分散 一步制备 氮元素 二茂铁 收集筒 体积比 注入炉 电容 乙醇 氮源 裂解 炉内 碳管 吡咯 浮动 引入 配置
【权利要求书】:

1.一种高效率制备氮掺杂石墨烯碳纳米管薄膜的方法,具有如下步骤:

(1)将立式CVD炉完全密封,持续通入100~300sccm的Ar,使立式CVD炉内的空气排除干净,再通过温度控制器将立式CVD炉升温至1100~1200℃,保温2~5h,为后续石墨烯碳纳米管膜的生长提供恒温环境;

(2)按照787:15:8的质量比称量乙醇、二茂铁、噻吩,将其混合为乙醇溶液,置于烧杯中;再外加质量百分比为1%~4%的吡咯C4H5N,将其溶入上述乙醇溶液中;再称量一定质量的氧化石墨烯,溶入乙醇溶液,其在乙醇溶液中的浓度应保持在1.0~1.3mg/mL;将上述溶液经过30min超声分散后转移至注射器,再将注射器安装在对应的注射泵中,作为前驱体溶液;

(3)待步骤(1)、(2)完成后,持续注入800sccm的H2和100sccm的Ar,待H2和Ar充满整个立式CVD炉膛,再将前驱体溶液注射入炉膛中;在炉膛底部收集筒状类的石墨烯碳纳米管薄膜,制成氮掺杂石墨烯碳纳米管薄膜。

2.根据权利要求1所述的高效率制备氮掺杂石墨烯碳纳米管薄膜的方法,其特征在于,所述步骤(2)是通过吡咯引入氮源。

3.根据权利要求1所述的高效率制备氮掺杂石墨烯碳纳米管薄膜的方法,其特征在于,所述步骤(3)的H2和Ar体积比为8:1,且前驱体溶液注射流速为5mL/h。

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