[发明专利]高金刚烷衍生物、其制备方法以及光致抗蚀剂组合物

权利要求书

1.下述式（I）所示的化合物，

式中，R¹表示氢原子、卤素原子、甲基或三氟甲基。

2.根据权利要求1所述的化合物，其中，在前述式（I）中，R¹为氢原子或甲基。

3.权利要求1或2所述的化合物的制备方法，其中，使下述式（A）所示的5-氧代-4-氧杂-5-高金刚烷-2-醇与（甲基）丙烯酸类或其衍生物反应，

。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其中，使所述式（A）所示的5-氧代-4-氧杂-5-高金刚烷-2-醇与甲基丙烯酸酐反应。

5.根据权利要求3或4所述的制备方法，其中，在碱性催化剂的存在下进行所述反应。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其中，所述碱性催化剂为选自三乙基胺、三丁基胺、三辛基胺、吡啶、N,N-二甲基氨基吡啶、DBN（1,5-二氮杂双环［4,3,0］-5-壬烯）、和DBU（1,8-二氮杂双环［5,4,0］十一碳-7-烯）中的有机胺。

7.（甲基）丙烯酸系聚合物，其将权利要求1或2所述的化合物聚合而得到。

8.根据权利要求7所述的（甲基）丙烯酸系聚合物，其中，权利要求1或2所述的化合物的聚合为1种以上权利要求1或2所述的化合物与其它聚合性单体的聚合，

所述（甲基）丙烯酸系聚合物为将所述聚合在聚合引发剂的存在下进行的（甲基）丙烯酸系聚合物，

所述聚合引发剂为选自2,2’-偶氮双异丁腈、2,2’-偶氮双（2-甲基丁腈）、2,2’-偶氮双（2,4-二甲基戊腈）、和2,2’-偶氮二异丁酸二甲酯中的偶氮系聚合引发剂。

9.根据权利要求7所述的（甲基）丙烯酸系聚合物，其中，含有10～90摩尔%的来源于权利要求1或2所述的化合物的重复单元。

10.根据权利要求7～9中任一项所述的（甲基）丙烯酸系聚合物，其重均分子量为1000～100000。

11.正型光致抗蚀剂组合物，其含有权利要求7～10所述的（甲基）丙烯酸系聚合物和光产酸剂。

12.根据权利要求11所述的正型光致抗蚀剂组合物，其中，相对于100质量份正型光致抗蚀剂组合物，含有2～50质量份的（甲基）丙烯酸系聚合物。

13.根据权利要求11或12所述的正型光致抗蚀剂组合物，其中，相对于100质量份所述（甲基）丙烯酸系聚合物，所述光产酸剂的含量为0.1～30质量份。

14.抗蚀图形形成方法，其包含如下工序：使用权利要求11～13所述的正型光致抗蚀剂组合物在支持体上形成光致抗蚀剂膜的工序，将该光致抗蚀剂膜进行选择曝光的工序，和将选择曝光了的该光致抗蚀剂膜进行碱显影处理形成抗蚀图形的工序。