[发明专利]彩膜基板及其制备方法和显示装置有效
申请号: | 201610916478.8 | 申请日: | 2016-10-20 |
公开(公告)号: | CN106569361B | 公开(公告)日: | 2019-08-16 |
发明(设计)人: | 韩自力;吴洪江;庞家齐;查长军;熊强;黎敏 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1333;G02F1/1339 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 罗瑞芝;陈源 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 彩色滤光层 高度补偿 彩膜基板 像素区 显示装置 黑矩阵 制备 上表面形状 柱状隔垫物 底部形状 构图工艺 间隙设置 有效补偿 阵列基板 上表面 下陷 段差 交叠 图案 制作 | ||
本发明属于显示技术领域,具体涉及一种彩膜基板、阵列基板的制备方法和显示装置。该彩膜基板,划分为多个像素区,相邻所述像素区之间的间隙设置有黑矩阵,所述像素区设置有彩色滤光层,所述彩色滤光层与所述黑矩阵至少部分交叠,所述彩色滤光层的上方设置有高度补偿部,所述高度补偿部的底部形状与所述彩色滤光层的上表面形状相适,所述高度补偿部的顶部为平面,所述高度补偿部的上表面高度不高于所述彩色滤光层的最大高度。该彩膜基板通过高度补偿部,能有效补偿因彩色滤光层下陷造成的段差;而且,该高度补偿部在制作柱状隔垫物的图案时同时形成,不需增加额外的构图工艺。
技术领域
本发明属于显示技术领域,具体涉及一种彩膜基板、阵列基板的制备方法和显示装置。
背景技术
彩膜基板、阵列基板以及二者之间的液晶层是液晶显示装置的重要组成部分,阵列基板为液晶偏转提供稳定的电场,彩膜基板为经液晶偏转而透过的光提供彩色化处理。
通常情况下,彩膜基板包括基板、黑矩阵(Black Matrix,简称BM)、彩色滤光层(Color Filter,简称CF,包括红色R、绿色G和蓝色B)、平坦层(Over Coat,简称OC)以及隔垫物(Post Spacer,简称PS)。其制备过程如下:
首先,在基板上方形成黑矩阵的图案;
然后,采用三次构图工艺依次形成三色彩色滤光层的图形;
接着,在黑矩阵和彩色滤光层的上方形成一层平坦层;
最后,在平坦层的上方形成柱状隔垫物。
为防止漏光,彩色滤光层与黑矩阵有一定的重叠,同时受彩色滤光层流动性的影响,彩色滤光层填充在黑矩阵形成的网格框内后,彩色滤光层表面实际为弧形结构,如图1所示。重叠部分产生的段差以及彩色滤光层的膜面弧形结构会对画面品质产生影响;并且,随着液晶显示面板尺寸的日益增大,彩色滤光层填充在黑矩阵网格框内的部分,随着距黑矩阵边框的距离增大而下陷程度增大,段差及弧面弧形有增大趋势,导致彩色滤光层中心膜面下凹最为明显。而下凹严重会导致该处对应的液晶偏转出现偏差,进而影响显示产品的画质。
可见,设计一种平坦度好,具有优质画质的彩膜基板成为目前亟待解决的技术问题。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是针对现有技术中存在的上述不足,提供一种彩膜基板、阵列基板的制备方法和显示装置,至少部分解决彩膜基板平坦度差、与彩色滤光层下陷形成段差的问题。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是该彩膜基板,划分为多个像素区,相邻所述像素区之间的间隙设置有黑矩阵,所述像素区设置有彩色滤光层,所述彩色滤光层与所述黑矩阵至少部分交叠,所述彩色滤光层的上方设置有高度补偿部,所述高度补偿部的底部形状与所述彩色滤光层的上表面形状相适,所述高度补偿部的顶部为平面,所述高度补偿部的上表面高度不高于所述彩色滤光层的最大高度。
优选的是,所述高度补偿部在正投影方向上的面积小于等于像素区的面积。
优选的是,所述彩色滤光层的形状与所述像素区的边界形状相似,所述高度补偿部在所述像素区的中心线区域的厚度最大,沿所述像素区的中心线平行向两侧的厚度逐渐减小。
优选的是,所述像素区的边界形状为矩形,所述高度补偿部的厚度在所述像素区的长边中心线区域的厚度最大,且以所述像素区的长边中心线为对称线沿短边方向向两侧的厚度逐渐减小。
优选的是,还包括厚度均匀的保护层,所述保护层设置于所述彩色滤光层的上方,所述高度补偿部设置于所述保护层的上方。
优选的是,还包括隔垫物,所述隔垫物对应设置于相邻所述像素区之间的间隙的上方,所述高度补偿部的高度大于所述隔垫物的高度,且所述高度补偿部与所述隔垫物采用相同的材料形成。
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