[发明专利]彩膜基板及其制备方法和显示装置

权利要求书

1.一种彩膜基板，划分为多个像素区，相邻所述像素区之间的间隙设置有黑矩阵，所述像素区设置有彩色滤光层，所述彩色滤光层与所述黑矩阵至少部分交叠，其特征在于，所述彩色滤光层的上方设置有高度补偿部，所述高度补偿部的底部形状与所述彩色滤光层的上表面形状相适，所述高度补偿部的顶部为平面，所述高度补偿部的上表面高度不高于所述彩色滤光层的最大高度。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述高度补偿部在正投影方向上的面积小于等于像素区的面积。

3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩色滤光层的形状与所述像素区的边界形状相似，所述高度补偿部在所述像素区的中心线区域的厚度最大，沿所述像素区的中心线平行向两侧的厚度逐渐减小。

4.根据权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述像素区的边界形状为矩形，所述高度补偿部的厚度在所述像素区的长边中心线区域的厚度最大，且以所述像素区的长边中心线为对称线沿短边方向向两侧的厚度逐渐减小。

5.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，还包括厚度均匀的保护层，所述保护层设置于所述彩色滤光层的上方，所述高度补偿部设置于所述保护层的上方。

6.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，还包括隔垫物，所述隔垫物对应设置于相邻所述像素区之间的间隙的上方，所述高度补偿部的高度小于所述隔垫物的高度，且所述高度补偿部与所述隔垫物采用相同的材料形成。

7.一种彩膜基板的制备方法，所述彩膜基板划分为多个像素区，所述制备方法包括在相邻所述像素区之间的间隙形成黑矩阵以及在所述像素区形成彩色滤光层的步骤，其特征在于，还包括在所述彩色滤光层的上方形成高度补偿部的步骤，所述高度补偿部的底部形状与所述彩色滤光层的上表面形状相适，所述高度补偿部的顶部为平面，所述高度补偿部的上表面高度不高于所述彩色滤光层的最大高度。

8.根据权利要求7所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，还包括形成隔垫物的步骤，所述高度补偿部与所述隔垫物采用同一掩模板、在同一构图工艺中形成；其中，所述掩模板中，对应着用于形成所述隔垫物部分的透过率为A％，其中：0＜A＜100，对应着用于形成所述高度补偿部部分的透过率小于B％，其中：0＜B＜A，其他区域为不透光区域。

9.根据权利要求8所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述掩模板中，对应着用于形成所述高度补偿部部分，在所述像素区的长边中心线区域的透过率为B％，且以所述像素区的长边中心线为对称线沿短边方向向两侧的透过率逐渐减小。

10.根据权利要求8所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述掩模板中，对应着用于形成所述高度补偿部部分的透过率为：

B(x)％＝B％×k^x/d×(1-2x/d)ⁿ

其中，d为透光区域的宽度，x为距透光区域中心线的直线距离，0≤x＜d；n和k为与产线特性及光刻胶特性相关的影响因子。

11.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-6任一项所述的彩膜基板。