[发明专利]一种低损耗纳米触控膜

权利要求书

1.一种低损耗纳米触控膜，其制备方法如下：

步骤1，将基材浸泡至醇溶液，超声清洗后，采用蒸馏水清洗晾干；

步骤2，在基材表面涂覆透明氧化铟锡液，得到透明氧化铟锡膜，

步骤3，在透明氧化铟锡膜上端设置有导线模具，然后将浇注混合银浆溶液，得到纳米结构的导电网络；

步骤4，将步骤3中的导电网络加入微固化，形成导电丝网络；

步骤5，去模后，将导电丝网络进行加热加压修复反应，形成精细导电丝网络；

步骤6，将精细导电丝进行保护膜固化，经加热固化后即可得到所述产品纳米触控膜。

2.根据权利要求书1所述的一种低损耗纳米触控膜，其特征在于，所述步骤1中的醇溶液采用乙醇、丙醇、异丙醇中的一种，所述超声频率为30-60kHz，超声时间为5-15min。

3.根据权利要求书1所述的一种低损耗纳米触控膜，其特征在于，所述步骤2中的透明氧化铟锡液采用乙醇铟和乙酸锡的乙醇液，所述透明氧化铟锡液的配方为乙醇铟5-8份、乙酸锡3-7份、乙醇20-35份。

4.根据权利要求书3所述的一种低损耗纳米触控膜，其特征在于，所述步骤2中的涂覆量为1.4-7.3mg/cm²，所述涂覆方法采用旋转涂抹法。

5.根据权利要求书1所述的一种低损耗纳米触控膜，其特征在于，所述步骤3中混合银浆溶液采用钛酸正丁酯2-5份、硝酸银10-15份、碱性粉体8-12份、醇液30-40份。

6.根据权利要求书5所述的一种低损耗纳米触控膜，其特征在于，所述步骤3中的碱性粉体采用氢氧化钠或者氢氧化钾，所述醇液采用丙醇或乙醇。

7.根据权利要求书1所述的一种低损耗纳米触控膜，其特征在于，所述步骤4中的微固化温度为50-60℃，所述微固化时间为20-30min。

8.根据权利要求书1所述的一种低损耗纳米触控膜，其特征在于，所述步骤5中的反应的加热温度为96-110℃，所述加压压力为2-7MPa，所述修复反应的气体为氮气与氧气的混合物，所述氧气含量为40-60%，所述修复反应的时间为2-6h。

9.根据权利要求书1所述的一种低损耗纳米触控膜，其特征在于，所述步骤6中的固化温度为70-80℃，所述保护膜采用高分子透明薄膜。