[发明专利]一种大豆种植高产的新方法在审

专利信息
申请号: 201610874901.2 申请日: 2016-10-08
公开(公告)号: CN108293791A 公开(公告)日: 2018-07-20
发明(设计)人: 张瑞芹 申请(专利权)人: 张瑞芹
主分类号: A01G22/40 分类号: A01G22/40;A01G13/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 266232 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 大豆种植 高产 化学除草 半矮秆 抗倒伏 叶面肥 密植 喷施 深施 深松 种肥 大豆 播种 增产
【说明书】:

一种大豆种植高产的方法,其特点是包括:选择节间短、秆强、抗倒伏、耐密植的矮秆或半矮秆品种、深松、深施种肥,喷施叶面肥、播法选择、播种密度、化学除草等过程,它可以大豆增产的成果。

技术领域

发明涉及农作物种植领域,具体的说是一种大豆种植高产的方法。

背景技术

与传统的70厘米宽行距播法相比,窄行密植可增产20%以上。在生产条件较好的地区和地块,采用窄行密植的大豆亩产能稳定在200千克以上。

发明内容

本发明是为大豆的种植高产,发明的一种大豆高产的方法。

本发明为大豆低产问题,所采取的技术方案,一种大豆种植高产的方法,其特殊之处是包括以下过程:

(1)选择节间短、秆强、抗倒伏、耐密植的矮秆或半矮秆品种。

(2)深松。深松可以增加土壤的库容量,改善土壤的水分存储能力,满足大豆对水分的需求。

(3)深施种肥,喷施叶面肥。采用划刀式施肥装置,分层深施于种下5厘米和12厘米处,一般每亩施尿素3千克、磷酸二铵15千克、氯化钾7千克。在氮磷肥充足的条件下注意增加钾肥用量。

(4)播法选择。在土壤状况良好、生产水平较高的地区,可采取平作窄行密植播法;在低洼地块和雨水较多地区可采用大垄窄行密植播法;在一般生产条件和采用小型拖拉机作业的地区,可采用小垄窄行密植或垄上三行窄沟密植播法。平作窄行密植一般采用双条精量点播,平均行距17~30厘米、株距11~12厘米、播深3~5厘米,用大中机械一次完成作业。

(5)播种密度。一般品种适宜密度为每亩2.6万~2.8万株,半矮秆品种可增加到3.3万~4.0万株。整地质量好、肥力水平高的地块,要降低播量10%;整地质量差、肥力水平低的地块,要增加播量10%。

(6)化学除草。窄行密植栽培法可在秋季、春季播前或播后苗前用化学除草剂处理土壤。秋季土壤处理可结合秋施肥进行,可选用速收、乙草胺、金都尔、宝收等除草剂。

技术效果

本发明的技术效果是可以有效的防治花生叶斑病的发生,采用上述技术方案,可以实现花生叶斑病提早预防、提早治疗的成果,这种方式不仅操作方便、实用性强,而且可以达到防病、增产的效果,对于后期大田管理有着很好的辅助作用。

具体实施方式

(1)选择节间短、秆强、抗倒伏、耐密植的矮秆或半矮秆品种。

(2)深松。深松可以增加土壤的库容量,改善土壤的水分存储能力,满足大豆对水分的需求。

(3)深施种肥,喷施叶面肥。采用划刀式施肥装置,分层深施于种下5厘米和12厘米处,一般每亩施尿素3千克、磷酸二铵15千克、氯化钾7千克。在氮磷肥充足的条件下注意增加钾肥用量。为满足大豆花荚期对营养的需求,可分次用尿素加磷酸二氢钾作为叶面肥进行叶面喷施。

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