[发明专利]一种大豆种植高产的新方法

权利要求书

1.一种大豆种植高产的方法，其特殊之处是包括以下过程：

选择节间短、秆强、抗倒伏、耐密植的矮秆或半矮秆品种。

2.深松：深松可以增加土壤的库容量，改善土壤的水分存储能力，满足大豆对水分的需求。

3.深施种肥，喷施叶面肥。

4.采用划刀式施肥装置，分层深施于种下5厘米和12厘米处，一般每亩施尿素3千克、磷酸二铵15千克、氯化钾7千，。

5.在氮磷肥充足的条件下注意增加钾肥用量。

6.播法选择：在土壤状况良好、生产水平较高的地区，可采取平作窄行密植播法；在低洼地块和雨水较多地区可采用大垄窄行密植播法；在一般生产条件和采用小型拖拉机作业的地区，可采用小垄窄行密植或垄上三行窄沟密植播法；平作窄行密植一般采用双条精量点播，平均行距17～30厘米、株距11～12厘米、播深3～5厘米，用大中机械一次完成作业。

7.播种密度：一般品种适宜密度为每亩2.6万～2.8万株，半矮秆品种可增加到3.3万～4.0万株；整地质量好、肥力水平高的地块，要降低播量10%；整地质量差、肥力水平低的地块，要增加播量10%。

8.化学除草：窄行密植栽培法可在秋季、春季播前或播后苗前用化学除草剂处理土壤；秋季土壤处理可结合秋施肥进行，可选用速收、乙草胺、金都尔、宝收等除草剂。